DIN 50450-9-2003 Testing of materials for semiconductor technology - Determination of impurities in carrier gases and dopant gases - Part 9 Determination of oxygen nitrogen carbonm.pdf
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1、DEUTSCHE NORM April 2003Prfung von Materialien fr die HalbleitertechnologieBestimmung von Verunreinigungen in Trger- und DotiergasenTeil 9: Bestimmung von Sauerstoff, Stickstoff, Kohlenstoffmonooxid, Kohlenstoffdioxid,Wasserstoff und C1-C3-Kohlenwasserstoffen in Chlorwasserstoff mit Gaschromatograph
2、ie50450-9ICS 71.100.20Testing of materials for semiconductor technology Determination ofimpurities in carrier gases and dopant gases Part 9: Determination ofoxygen, nitrogen, carbonmonoxide, carbondioxide, hydrogen and C1-C3-hydrocarbons in gaseous hydrogen chloride by gaschromatographyEssais des ma
3、triaux pour la technologie des semi-conducteurs D-termination des impurets dans les gaz vecteurs et les gaz dopants Partie 9: Dosage de loxygne, de lazote, du monoxyde de carbone, dudioxyde de carbone, de lhydrogne et des hydrocarbures C1-C3parchromatographie en phase gazeuse dans le chlorure dhydro
4、gne gazeuxVorwortDiese Norm wurde vom Unterausschuss NMP 221.3 Prfung von Prozesschemikalien fr die Halblei-tertechnologie des Arbeitsausschusses NMP 221 Prfung von Materialien fr die Halbleitertechnologieim Normenausschuss Materialprfung (NMP) erarbeitet.DIN 50450 Prfung von Materialien fr die Halb
5、leitertechnologie Bestimmung von Verunreinigungen inTrger- und Dotiergasen besteht aus: Teil 1: Bestimmung der Wasserverunreinigung in Wasserstoff, Sauerstoff, Stickstoff, Argon und Heliummittels einer Diphosphorpentoxidzelle Teil 2: Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in Stickstoff, Argon, Heli
6、um, Neon und Wasserstoffmittels einer galvanischen Messzelle Teil 3: Bestimmung von Methanverunreinigungen in Wasserstoff, Sauerstoff, Stickstoff, Argon undHelium mit einem Flammenionisationsdetektor (FID) Teil 4: Bestimmung von C1-C3-Kohlenwasserstoffen in Stickstoff mit Gaschromatographie Teil 6:
7、Bestimmung von CO und CO2in Stickstoff mit Gaschromatographie undFlammenionisationsdetektor Teil 7: Bestimmung von CO und H2in Stickstoff mit Gaschromatographie und Reduktionsgasdetektor Teil 8: Bestimmung der Partikelanzahlkonzentration in strmendem Stickstoff mittels Laserpartikelzhler Teil 9 Best
8、immung von Sauerstoff, Stickstoff, Kohlenstoffmonooxid, Kohlenstoffdioxid, Wasserstoff undC1-C3-Kohlenwasserstoffen in Chlorwasserstoff mit GaschromatographieFortsetzung Seite 2 bis 5Normenausschuss Materialprfung (NMP) im DIN Deutsches Institut fr Normung e. V. DIN Deutsches Institut fr Normung e.V
9、. .Jede Art der Vervielfltigung, auch auszugsweise, Ref. Nr. DIN 50450-9:2003-04nur mit Genehmigung des DIN Deutsches Institut fr Normung e. V., Berlin, gestattet. Preisgr. 05 Vertr.-Nr.0005Alleinverkauf der Normen durch Beuth Verlag GmbH, 10772 BerlinDIN 50450-9:2003-0421 AnwendungsbereichDiese Nor
10、m legt ein Verfahren zur Bestimmung des Volumenanteils an Sauerstoff, Stickstoff, Kohlenstoff-monooxid, Kohlenstoffdioxid, Wasserstoff und C1-C3-Kohlenwasserstoffen in Chlorwasserstoff aus derGasphase fest.Das Verfahren ist anwendbar auf eine Anteilsbestimmung der o. g. Verunreinigungen in den folge
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