ISO 18116-2005 Surface chemical analysis - Guidelines for preparation and mounting of specimens for analysis《表面化学分析 分析用试样的制备和装配指南》.pdf
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1、NORME INTERNATIONALE ISO 18116 Premire dition 2005-08-15 Numro de rfrence ISO 18116:2005(F) ISO 2005 Analyse chimique des surfaces Lignes directrices pour la prparation et le montage des chantillons destins lanalyse Surface chemical analysis Guidelines for preparation and mounting of specimens for a
2、nalysisISO 18116:2005(F) ii ISO 2005 Tous droits rservs PDF Exonration de responsabilit Le prsent fichier PDF peut contenir des polices de caractres intgres. Conformment aux conditions de licence dAdobe, ce fichier peut tre imprim ou visualis, mais ne doit pas tre modifi moins que lordinateur employ
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7、ight office Case postale 56 CH-1211 Geneva 20 Tel. + 41 22 749 01 11 Fax + 41 22 749 09 47 E-mail copyrightiso.org Web www.iso.org Publi en SuisseISO 18116:2005(F) ISO 2005 Tous droits rservs iii Sommaire Page 1 Domaine dapplication . 1 2 Rfrences normatives . 1 3 Termes et dfinitions . 1 4 Symboles
8、 et termes abrgs 1 5 Exigences gnrales . 1 6 Inspection visuelle de lchantillon 2 7 Considrations sur lchantillon 2 7.1 Historique . 2 7.2 Information recherche . 2 7.3 chantillons prcdemment examins par dautres techniques analytiques . 2 8 Sources de contamination de lchantillon . 3 8.1 Outils, gan
9、ts, socles de montage, et matriaux similaires . 3 8.2 Exposition des gaz . 3 8.3 Exposition au vide instrumental 3 8.4 Exposition aux lectrons, aux ions, et aux rayons X . 4 8.5 Contamination de la chambre danalyse . 4 9 Stockage et transfert de lchantillon 4 9.1 Temps de stockage . 4 9.2 Rcipients
10、de stockage 4 9.3 Temprature et humidit . 5 9.4 Transfert de lchantillon 5 10 Procdures de montage de lchantillon . 5 10.1 Procdures gnrales . 5 10.2 Poudres et particules 6 10.3 Fils, fibres, et filaments 6 10.4 Support de montage . 6 10.5 Rduction des dommages thermiques pendant lanalyse 6 11 Mtho
11、des pour rduire la charge de lchantillon 7 11.1 Considrations gnrales 7 11.2 Masque, grille, enveloppe, ou revtement conducteurs 7 11.3 Canon de neutralisation . 7 11.4 Faisceaux dlectrons et dions . 7 12 Techniques de prparation de lchantillon 8 12.1 Considrations gnrales 8 12.2 Sparation mcanique
12、8 12.3 Amincissement contre limination 8 12.4 limination du substrat 8 12.5 Techniques de coupe 9 12.6 Croissance des surcouches . 10ISO 18116:2005(F) iv ISO 2005 Tous droits rservs 12.7 Solvants 10 12.8 Dcapage chimique . 11 12.9 Pulvrisation dions . 11 12.10 Dcapage par plasma 12 12.11 Chauffage .
13、 12 12.12 Rayonnement ultraviolet . 13 13 Fracture, clivage et traage . 13 13.1 Fracture 13 13.2 Clivage 14 13.3 Traage . 14 14 Techniques spciales de manipulation 14 14.1 Pompage pralable des chantillons contenant des gaz 14 14.2 Liquides visqueux . 14 14.3 Rsidu dissous 14 Bibliographie 15ISO 1811
14、6:2005(F) ISO 2005 Tous droits rservs v Avant-propos LISO (Organisation internationale de normalisation) est une fdration mondiale dorganismes nationaux de normalisation (comits membres de lISO). Llaboration des Normes internationales est en gnral confie aux comits techniques de lISO. Chaque comit m
15、embre intress par une tude a le droit de faire partie du comit technique cr cet effet. Les organisations internationales, gouvernementales et non gouvernementales, en liaison avec lISO participent galement aux travaux. LISO collabore troitement avec la Commission lectrotechnique internationale (CEI)
16、 en ce qui concerne la normalisation lectrotechnique. Les Normes internationales sont rdiges conformment aux rgles donnes dans les Directives ISO/CEI, Partie 2. La tche principale des comits techniques est dlaborer les Normes internationales. Les projets de Normes internationales adopts par les comi
17、ts techniques sont soumis aux comits membres pour vote. Leur publication comme Normes internationales requiert lapprobation de 75 % au moins des comits membres votants. Lattention est appele sur le fait que certains des lments du prsent document peuvent faire lobjet de droits de proprit intellectuel
18、le ou de droits analogues. LISO ne saurait tre tenue pour responsable de ne pas avoir identifi de tels droits de proprit et averti de leur existence. LISO 18116 a t labore par le comit technique ISO/TC 201, Analyse chimique des surfaces, sous-comit SC 2, Procdures gnrales.ISO 18116:2005(F) vi ISO 20
19、05 Tous droits rservs Introduction La prsente Norme internationale doit permettre daider les analystes dans la manipulation, le montage et le traitement dchantillons en vue dune analyse chimique des surfaces. Bien que principalement labores pour les techniques de spectroscopie des lectrons Auger (AE
20、S), spectroscopie de photolectrons par rayons X (XPS) et spectromtrie de masse des ions secondaires (SIMS), les mthodes dcrites dans la prsente Norme internationale sont galement applicables beaucoup dautres techniques analytiques sensibles aux surfaces telles que la spectromtrie de diffusion dions,
21、 la diffraction dlectrons de faible nergie et la spectroscopie de perte dnergie des lectrons, o la manipulation de lchantillon peut influencer les mesures sensibles aux surfaces. AES, XPS et SIMS sont sensibles des couches de surface qui sont typiquement de quelques nanomtres dpaisseur. Ces couches
22、minces peuvent tre sujettes de svres perturbations causes par la manipulation de lchantillon ou par les traitements de surface qui peuvent tre ncessaires avant lintroduction dans la chambre danalyse. Une prparation correcte et un montage appropri des chantillons sont particulirement critiques pour l
23、analyse chimique des surfaces. Une prparation inapproprie peut causer une altration de la composition de surface et engendrer des analyses non fiables. Les chantillons doivent tre manipuls soigneusement de sorte que lintroduction de contaminants parasites soit vite ou minimise. Le but est de prserve
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