KS D ISO 22309-2011 Microbeam analysis-Quantitative analysis using energy-dispersive spectrometry(EDS)《微光束分析 用能量扩散光谱测定法(EDS)对原子序数大于等于11(Na)的元素进行定量分析》.pdf
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1、 KSKSKSKSKSKSKSK KSKSKS KSKSK KSKS KSK KS KS D ISO 22309 (EDS) KS D ISO 22309:2011 2011 11 28 http:/www.kats.go.krKS D ISO 22309:2011 : ( ) ( ) ( ) : () () : (http:/www.standard.go.kr) : :2011 11 28 2011-0525 : : ( 02-509-7274) (http:/www.kats.go.kr). 10 5 , . KS D ISO 22309:2011 i . ii 1 1 2 1 3 .2
2、 4 .6 5 .7 6 .8 7 .9 7.1 .9 7.2 9 7.3 .10 7.4 k 10 7.5 (matrix effects) 10 7.6 11 7.7 (無標準 ) .11 7.8 11 7.9 13 A( ) .14 B( ) / 16 C( ) 18 C.1 .18 C.2 .18 C.3 .19 D( ) ( ) Mn K(5.894 keV) . 3.29 (resolution) . 3.30 (standardless analysis) k ( / ) X . . 3.31 (sum peaks) (pile-up) . 3.32 (traceability)
3、 , 3.33 (uncertainty) KS D ISO 22309:2011 6 3.34 (validation) . 3.35 X (X-ray absorption) EPMA/EDS SEM/EDS X X 4 4.1 . , . 4.2 . . m . 4.3 . . 4.4 (embedded) . . 1 1/4 m . . . . a) b) 2 ( ) c) d) e) . 2 ASTM E3-019 . 4.5 , (etching) . . (marking) . 4.6 . . . KS D ISO 22309:2011 7 20 nm . , ( : ) . .
4、 . 4.7 . 4.8 KS D ISO 1459518 , (: , ) , . 5 5.1 ( 1 % ) . (KS D ISO 15632 ). 5.2 (: ) . . 5.3 (: 1.486 keV Al K) (: 8.040 keV Cu K) , . . (: Al Cu) K . 1 , . 2 Cu L Cu K Cu LI Cu L Cu L . 5.4 (FWHM) . KS D ISO 15632 ( 10 % ) . . . 1 keV Mn K FWHM 160 eV 135 eV . 5.5 Cu L Cu K (: ) . ( 2/3 ) . KS D
5、ISO 15632 B . 5.6 , - (Duane-Hunt rule) . KS D ISO 22309:2011 8 (bremsstrahlung) SEM . . 6 6.1 ( : 1 % ) . ( 10 kV 25 kV) . a) 1.8 . 8 keV 10 keV 20 kV . b) (1 keV 3 keV) a) ( : 10 kV) . 10 kV Z 24(Cr) Z 29(Cu) K . c) . , , . KS D ISO 14594 . 6.2 . 1 Si-Li 10 000 / (counts/s) 35 % . 250 000 . . 2 .
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