GB T 17473.7-1998 厚膜微电子技术用贵金属浆料测试方法 可焊性、耐焊性试验.pdf
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1、ICS 77. 040. 01 H 23 共G/T 17473.7 1998 、Test methods of precious metal pastes used for thick film microelectronics Test of solderabiIity and solderleaching resistance 1998-08-19发布1999- 03-01实国家质技术监督局发布 二一斗.-_.-. 一一千-一一一一一一一一二一十一一一一一一一一)一一一一一一一一一-一一GB/T 17473.7-1998 前兰fE习浆料的可焊性、耐焊性是贵金属厚膜导体浆料生产和使用必须控制
2、和检测的两项重要指标.目前我国尚未制定出该测试方法标准.也未检索到该测试方法的国际标准或国外先进标准。本标准主要参照IEC512-6: 1984机电元件的测量和试验方法标准和有关的技术资料,结合我国的实际情况而制定的.本标准由中国有色金属工业总公司提出。本标准由中国有色金属工业总公司标准计量研究所归口。本标准由昆明贵金属研究所负责起草.本标准主要起草人s金勿毁、陈一。一一一一二一-一一一一一一一一二一一一一一一一一一一2 范围中华人民共和国厚膜微电子技术测试方法可焊性、,画萄民;住Test methods of preclous metal pastes used for thick film
3、 microelectroni四-Testof solderability and solderleaching resistance 本标准规定了贵金属可锡焊浆料的可焊性、耐焊性试验方法。 GB/T 17473.7一1998本标准适用于贵金属可锡焊浆料的可焊料、耐焊性测试.非贵金属可锡焊浆料亦可参照使用.引用标准下列标准所包含的条文,通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版时,所示版本均为有效。所有的标准都会被修订,使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。GB/T 3131-1988 锡铅焊料3 方法原理根据熔融焊料在导体膜上的浸润饱满程度,通过放大镜目检鉴定其可焊性.
4、根据金属导体膜在熔融焊料中疫蚀前后面积的变化,通过放大镜目检鉴定其耐焊性.4 材料4. 1 基片s纯度不小于95%的氧化铝基片,表面粗糙度为o.51. 5m(在测量距离为10mm的条件下测量。4.2 焊料,HLSn60PbA或HLSn60PbB锡铅焊料,焊料应符合GB/T3131的规定.4.3 助焊剂z松香酒精溶液,浓度为15%30%.4.4 焊料清洗剂g酒精。5 5.1 5.2 5.3 5.4 5.5 厚膜印刷机.厚膜隧道烧结炉,温度范围为室温1OOO.C. 焊料槽g氧化铝瑜涡,纯度不小于90%。数字显示温控装置s温度范围为室温500.C.控温精度为士5.C。5倍放大镜.6 样品相l备6.
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