GB T 17473.6-2008 微电子技术用贵金属浆料测试方法.分辨率测定.pdf
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1、ICS 7712099H 68 园园中华人民共和国国家标准GBT 1 747362008代替GBT 174736 1998微电子技术用贵金属浆料测试方法分辨率测定2008-03-3 1发布Test methods of precious metals pastes used formicroelectronics-Determination of resolution2008-09-01实施丰瞀徽鬻瓣訾糌瞥星发布中国国家标准化管理委员会仅19刖 昌GBT 1747362008本标准代替GBT 174731998厚膜微电子技术用贵金属浆料测试方法(所有部分),本标准分为7个部分: GBT1747
2、31 2008微电子技术用贵金属浆料测试方法 固体含量测定;GBT 174732 2008微电子技术用贵金属浆料测试方法细度测定;GBT 174733 2008微电子技术用贵金属浆料测试方法方阻测定;GBT 174734 2008微电子技术用贵金属浆料测试方法附着力测试;GBT 174735 2008微电子技术用贵金属浆料测试方法粘度测定;GBT 1 747362008微电子技术用贵金属浆料测试方法 分辨率测定GBT 174737 2008微电子技术用贵金属浆料测试方法可焊性、耐焊性测定。本部分为GET 17473-2008的第6部分。本部分代替GBT 174736-1998厚膜微电子技术用贵
3、金属浆料测试方法分辨率测定。本部分与GBT 1747361998相比,主要有如下变动:将原标准名称修改为微屯子技术用贵金属浆料测试方法分辨率测定;增加了固化型贵金属浆料分辨率测定的内容;原“光刻膜丝网网径20一25m不锈钢丝网”改为“光刻膜丝网,丝网孔径不大于54 pm”;增加63将印有固化型的试样按其规定的工艺要求进行静置、烘干、固化,固化后试样膜厚控制在ltxm15#m;分辨率规格分级重新定义为01 mm、02 turn、o3 mm、04 mm、05 mm五个级别。本部分由中国有色金属工业协会提出。本部分由全国有色金属标准化技术委员会负责归口。本部分由贵研铂业股份有限公司负责起草。本部分起
4、草人:刘成、赵汝云、陈伏生、马晓峰、刘继松、朱武勋。本部分所代替标准的历次版本发布情况为:GBT 174736一1998。1范围微电子技术用贵金属浆料测试方法分辨率测定本部分规定了微电子技术用贵金属浆料分辨率的测定方法。本部分适用于微电子技术用贵金属浆料的分辨率测定。2规范性引用文件GBT 1747362008下列文件中的条款通过本部分的引用而成为本部分的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本部分,然而,鼓励根据本部分达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本部分。GBT 8170数值修约规则3方法
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