GB T 17473.3-2008 微电子技术用贵金属浆料测试方法.方阻测定.pdf
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1、ICS 77.120.99 H 68 中华人民主t_,、不日国国家标准GB/T 17473.3-2008 代替GB/T17473.3-1998 微电子技术用贵金属浆料测试方法方阻测定Test methods of precious metals .pastes used for microelectronics一Determination of sheet resistance 2008-03-31发布中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会2008-09-01实施发布GB/ T 17473.3-2008 .画. 目U吕本标准是对GB/T17473-1998(厚膜微电子技
2、术用贵金属浆料测试方法(所有部分)的整合修订,分为7个部分:一-GB/T17473.1-2008 微电子技术用贵金属浆料测试方法固体含量测定:一-GB/T17473.2- 2008 微电子技术用贵金属浆料测试方法细度测定;一-GB/T17473.3-2008 微电子技术用贵金属浆料测试方法方阻测定;一-GB/T17473.4-2008 微电子技术用贵金属浆料测试方法附着力测试:一-GB/T17473.5-2008 微电子技术用贵金属浆料测试方法粘度测定;一一-GB/T17473.6-2008 微电子技术用贵金属浆料测试方法分辨率测定;一一-GB/T17473.7-2008 微电子技术用贵金属浆
3、料测试方法可焊性、耐焊性测定。本部分为GB/T17473-2008的第3部分。本部分代替GB/T17473. 3-1998(厚膜微电子技术用贵金属浆料测试方法方阻测定。本部分与GB/T17473.3-1998相比,主要有如下变动:一一将原标准名称修改为微电子技术用贵金属浆料测试方法方阻测定;一一增加低温固化型浆料方阻的测定方法:一一原标准的原理中,将浆料用丝网印刷在陶磕基片,经过烧结后,膜层在一定温度及其厚,度、宽度不变的情况下修改为.将浆料用丝网印刷在陶在基片或有机树脂基片上,经过烧结或固化后,膜层在一定温度及厚度、宽度不变的情况下;一一一测厚仪修改为3光切显微测厚仪罔于挠结型浆料:范围为o
4、mm蝠-5mm,精度为0.001mm. 千分尺用于固化型浆料:范围为omm-5 mm,精度为0.001mm, 本部分的附录A为规范性附录。本部分由中国有色金属工业协全提出。本部分由全国有色金属标准化在宋委员会归口。本部分由贵研铀业股份有限公司负责起草e本部分主要起草人:金勿躁,到i继松、李文琳、陈伏生、朱武勋、李晋。本部分所代替标准的历出版本发布情况为:一一-GB/T17473. 3- l .9 glf. I 1 范困微电子技术用贵金属浆料测试方法方阻测定本部分规定了微电子技术用贵金属浆料方阻的测试方法。本部分适用于微电子技术用贵金属浆料方阻的测定。2 规范性引用文件GD/T 17473.3-
5、2008 下列文件中的条款通过本部分的引用而成为本部分的条款。凡是注日期的51用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容或修订版均不适用于本部分.然而,鼓励根据本部分届戒协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不住日期的引用文件,其最新版本适用于本部分。GB/T 8170 数值修约规则3 方法原理浆料用丝网印刷在陶瓷基片或有机树脂基片上.经过烧结或固化后,原层在一定温度及厚度、宽度不变的情况下,膜层电阻与膜层带的长度成正比.通过测量规定膜层:氏度的电阻.计算方阻。4 材料基片:纬度不小子95%的氧化铝或有机树脂基片,表面粗糙度为O.5m-1.5m(在测量距离为10 mm的条件下测量)
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