KS D 1963-2009 Methods for chemical analysis of copper nickel resistance material《铜镍电阻材料的化学分析方法》.pdf
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2、per nickel resistance material 1 KS D 5581 (, , , ) . 2 . . ( ) . KS D 0002, KS D 2351, KS D 5581, , , KS M 0001, KS M 0012, KS M 0015, KS M 8005, KS Q 5002, 1: 3 KS M 0001 KS M 0012 . 4 4.1 KS D 0002 . 4.2 2 ( 1 ) . . 4.3 . a) . b) . c) , . KS D 1963:2009 2 d) , . e) . . f) , 5 mm . 4.4 a) ( 50 g )
3、 . b) . c) 1 . 4.5 a) . b) . 5 5.1 KS D 5581 KS Q 5002 . 5.2 a) 2 . b) . 6 . 6.1 6.1.1 , ( ). 6.1.2 a) 20 mL 5 mL , 5 mL . b) (95 % ) KS D 1963:2009 3 6.1.3 a) ( 1 ) b) A( 2 ) c) B( 3 ) d) ( 4 ) 6.1.4 a) 1 g , 30 mL . . 150 mL . b) A , B 2 20 30 ( 20 .) 0.3 0.4 A . c) , , 5 mm 30 . d) ( ). e) , 80 3
4、0 , . 1)100 (%) Cu m w w : (g) m :(g) 1) . KS D 1963:2009 4 :mm :mm 2 A :mm :mm 3 B 4 1 120 . 1.5 50 110 55 1 1 100 40 8 5 ( 200) 160 KS D 1963:2009 5 7 2 . a) b) 7.1 7.1.1 6. . , , . EDTA, EBT . 7.1.2 a) (1:1, 1:50) b) 6.1.2 a) . c) d) (1:1) e) (250 g/L) f) (250 g/L) g) 1.0 g (10 g/L) 100 mL . h) (
5、0.02 mol/L) (99.99 % , KS D 2351 1 ) 1.308 g (1:1) , (1 000 mL) . 0.02 mol/L 1 . i) EDTA (0.02 mol/L) KS M 0001 . j) T(EBT) KS M 0015 . 7.1.3 a) 1 g (200 mL) , 30 mL , 6.1 . 2)b) (250 mL) , 3),4) (500 mL) . c) 10 mL 5) 20 mL , 2) . 0.1 g (300 mL) (1:1) 10 mL , 10 mL . , 100 mL (99.5 % .) 8 . . 3) 15
6、 mL, 25 mL 4) . 0.05 g, 0.1 g . 5) 2) 25 mL . KS D 1963:2009 6 5 mL 250 mL . d) 90 10 mg 7 mL , 5 mL , 20 . e) (5 A) , (1:1) 10 mL (1:50) , . f) 10 mg 0.02 mol/L EDTA 10 mL , 5 mL 23 EBT 0.1 mL (1:1) 6) 0.02 mol/L 7) , . 100 174 001 . 0 ) ( (%) Ni 2 1 B m V F V V 1 :0.02 mol/L EDTA (mL) F :0.02 mol/
7、L EDTA V 2 :0.02 mol/L (mL) B : m :(g) 7.2 7.2.1 6. . , . 7.2.2 7.1.2 b)f) . 7.2.3 a) 7.1.3 a)d) . b) 7.1.3 d) (G3) , 120 130 , Ni (C 4 H 7 N 2 O 2 ) 2 . 100 2 203 . 0 (%) Ni B m w w : (g) B : m :(g) 6) pH 8.0 . 7) 30 40 . KS D 1963:2009 7 8 2 . a) 0.1 % . b) 0.5 % . 8.1 8.1.1 . ( ) . - - . 8.1.2 a)
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