NF C79-703-2009 Test methods for electroheating installations with electron guns 《带电子枪的电热设备试验方法》.pdf
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1、NF EN 60703April 2009Ce document est usage exclusif et non collectif des clients Saga Web.Toute mise en rseau, reproduction et rediffusion, sous quelque forme que ce soit,mme partielle, sont strictement interdites.This document is intended for the exclusive and non collective use of Saga Web custome
2、rs.All network exploitation, reproduction and re-dissemination,even partial, whatever the form (hardcopy or other media), is strictly prohibited.Saga WebFor SHANGHAI INTERNAT SCIENCE les exigences dessai ont t compltes avec de nouveaux points importants pour lessai et lacceptation des installations.
3、 Les dates suivantes ont t fixes: date limite laquelle la EN doit tre mise en application au niveau national par publication dune norme nationale identique ou par entrinement (dop) 2009-09-01 date limite laquelle les normes nationales conflictuelles doivent tre annules (dow) 2011-12-01 LAnnexe ZA a
4、t ajoute par le CENELEC. _ 3 EN 60703:2009 SOMMAIRE AVANT-PROPOS21Domaine dapplication et objet52Rfrences normatives.53Termes et dfinitions54Exigences gnrales pour les essais.84.1Mthode dessai84.2Priodicit des essais84.3Conditions ambiantes85Essai des appareils auxiliaires95.1Vrificationdensemble95.
5、2Essai de lquipement lectrique95.2.1Gnralits95.2.2Continuit du conducteur de retour et liaison quipotentielle.95.2.3Essai des verrouillages de scurit et du systme dalarme95.3Essai du systme de refroidissement par liquide95.4Essai des systmes de manuvre.105.5Essai sous vide.106Essai du systme canon l
6、ectrons.106.1Canon lectrons.106.1.1Parties individuelles.106.1.2Parties mobiles106.1.3Essais de rsistance disolement106.2Alimentation haute tension y compris les cbles106.2.1Systme de mise la terre.106.2.2Installation de scurit.116.2.3Connecteurs haute tension116.2.4Calibration des systmes de mesure
7、s internes.116.2.5Essai du dispositif de protection contre les surintensits.116.3Essai du systme de cintrage du faisceau lectronique126.4Essai du systme de dflexion du faisceau lectronique.126.5Essai du systme de mise au point du faisceau lectronique127Essais de campagne de production.127.1Proprits
8、de dflexion du faisceau127.1.1limites de dflexion127.1.2Rponse en frquence.137.1.3Linarit de langle de dflexion.137.2Essai la puissance assigne.137.3Essai des paramtres du faisceau lectronique137.3.1Puissance du faisceau.137.3.2Diamtre du faisceau.13 EN 60703:2009 4 7.4Mesure de la temprature de sur
9、face des dispositifs chauffs.147.5Stabilit long terme en conditions de campagne de production147.6Essai aux rayons X147.7Essai relatif aux effets lectromagntiques.14Tableau 1 Conditions ambiantes pour les essais.8 Annexe ZA (normative) Rfrences normatives dautres publications internationales avec le
10、s publications europennes correspondantes15 5 EN 60703:2009 MTHODES DESSAI DES INSTALLATIONS LECTROTHERMIQUES COMPORTANT DES CANONS LECTRONS 1 Domaine dapplication et objet La prsente Norme internationale sapplique aux installations lectrothermiques comportant un ou plusieurs canons lectrons comme s
11、ource de chaleur. Lobjet de la prsente norme est la normalisation des mthodes dessai permettant de dterminer les paramtres essentiels ainsi que les donnes et les caractristiques techniques des installations lectrothermiques comportant un ou plusieurs canons lectrons. Les essais contenus dans la prse
12、nte norme ne sont en aucun cas obligatoires et la liste de ces essais nest pas non plus limitative. Les essais raliser peuvent tre choisis partir de la liste propose. Les spcifications tablies par accord entre lutilisateur et le fabricant des installations lectrothermiques peuvent complter ces recom
13、mandations, mais il convient quelles ne soient pas en contradiction avec ces dernires. 2 Rfrences normatives Les documents de rfrence suivants sont indispensables pour lapplication du prsent document. Pour des rfrences dates, seule ldition cite est applicable. Pour les rfrences non dates, la dernire
14、 dition du document de rfrence sapplique (y compris les ventuels amendements). CEI 60050-841:2004, Vocabulaire Electrotechnique International (VEI) Partie 841: lectrothermie industrielleCEI 60204-1:2005, Scurit des machines Equipement lectrique des machines Partie 1: Rgles gnralesCEI 60204-11:2000,
15、Scurit des machines Equipement lectrique des machines Partie 11: Prescriptions pour les quipements HT fonctionnant des tensions suprieures 1 000 V c.a. ou 1 500 V c.c. et ne dpassant pas 36 kVCEI 60398:1999, Chauffage lectrique industriel Mthodes gnrales dessai CEI 60519-1:2004, Scurit dans les inst
16、allations lectrothermiques Partie 1: Exigences gnralesCEI 60519-7:2008, Scurit dans les installations lectrothermiques Partie 7: Exigences particulires pour les installations comportant des canons lectrons3 Termes et dfinitions Pour les besoins du prsent document, les termes et les dfinitions donns
17、dans la CEI 60050-841, dans la CEI 60519-7 (certains dentre eux sont rpts ici) et ceux qui suivent sappliquent. EN 60703:2009 6 3.1 faisceau lectronique flux dlectrons mis partir dune source (cathode ou plasma) et se dplaant le long de trajectoires dtermines avec exactitude de trs grandes vitesses V
18、EI 841-30-01, modifie 3.2 canon lectrons systme qui permet la gnration, la formation et lacclration dun ou plusieurs faisceaux lectroniques VEI 841-30-08, modifie 3.3 anode (dun canon lectrons) lectrode capable de faire sortir et dacclrer des lectrons partir du milieu de plus faible conductivit VEI
19、841-22-31, modifie 3.4 cathode (dun canon lectrons) lectrode capable dmettre des lectrons partir du milieu de plus faible conductivit et aussi de collecter les porteurs de charge positifs, si ncessaire VEI 841-22-32, modifie 3.5 tension dacclration dun faisceau diffrence de potentiel entre la cathod
20、e et lanode et servant crer un champ lectrique destin acclrer les lectrons VEI 841-30-29 3.6 alimentation haute tension source de la tension dacclration et du courant dmission des canons lectrons 3.7 conducteur de retour interconnexion lectrique entre lalimentation haute tension (ple positif) et la
21、partie anode du systme de canon lectrons, y compris lenceinte sous vide autour de la pice traiter 3.8 verrouillage dispositif qui empche lactivation dune pice dun quipement ds lors quun quelconque risque ou danger existe 3.9 enceinte sous vide espace ferm dune installation sous vide construit de fao
22、n telle quil peut supporter une atmosphre rarfie en son sein, dans lequel la pice traiter est place 3.10 enceinte de canon lectrons enceinte sous vide dans laquelle le canon lectrons est placNOTE Cette enceinte peut tre spare de la pice traiter par une ouverture, de sorte quon peut tablir une diffre
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