GB T 16527-1996 硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂规范.pdf
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1、GB/T 1 6527 1 996 本标准等效采用SEMI标准SEMIP3 90(硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂规范。本标准第5章要求中5.2条和5.3条均按SEMIP3 90制定,且根据产品使用方的需要,增加了5. 1条抗蚀剂涂层性能。SEMI标准是半导体设备和材料国际标准,具有较高的科学性和先进性,内容全面,标准配套。本标准与已经转化为我国标准的SEMIP1 92(硬面光掩模基板)(GB/T15871 1995)、SEMIP2 86(硬面光掩模用铅薄膜)(GB/T 15870一1995)、SEMIP4 92 (圆形石英玻璃光掩模基板规范(GB/T 16523一1996)、SEMIP6
2、 88(光掩模对准标记规范)(GB/T16524 1996)及准备转化为我国标准的SEMIP21 92(掩模曝光系统准确度表示准则、SEMIP19 92(用于集成电路制造技术的检测|图形单元规范等项标准形成一个微型构图标准系列。本标准附录A是提示的附录。本标准由中华人民共和国电子工业部提出。本标准由电子工业部标准化研究所归口。本标准起草单位z长沙韶光微电子总公司、电子工业部标准化研究所。本标准主要起草人:谈仁良、吴保华、王亦林、韩艳芬。1 范围中华人民共和标准硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂规范Specification for photoresist/E-beam resist for
3、hard surface photoplates GB/T 1 6527 1 996 本标准规定了硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂涂层的要求、试验方法等内节。本标准适用于硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂的涂层检验。2 引用标准下列标准所包含的条文,通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。本标准出版日才,所示版本均为有效。所有标准都会被修订,使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。GB 191 90 包装储运团示标志GB 2828 87 逐批检查计数抽样程序及抽样表(适用于连续批的检查)GB 2829 87 周期检查计数抽样程序及抽样表(适用于生产过程稳定性的检查)GB 72
4、38 87 玻璃及铅版表面平整度的测试方法GB 7239 87 铭版锚膜和胶膜厚度的测试方法GB/T 15871 1995 硬面光掩模基板GB/T 15870 1995 硬面光掩模用铅;:J I 1 1 Vo4一-4仿夏吧,J习E歹巳伊芭IlIlCt支刁E刁q吉3 定义本标准采用SJ/T10584中的定义。4 分类与命名抗蚀剂涂层符合本标准的硬面感光板基板应满足GB/T15871和GB/T15870规定的要求。抗蚀剂的分类与型号命名按附录A(提示的附录)规定,主要依据如下(订货文件中应予注明): a)抗蚀剂材料pb)在质量区内抗蚀剂的厚度及其公差;c)整个质量区抗蚀剂的均匀性;d)板与板之间抗
5、蚀剂的一致性;e)抗蚀剂的情烘时间和山且。5 要求和51 抗蚀剂涂层性能局1996-09-09批1997-05-01实GB/T 16527 1996 5. 1. 1 抗蚀剂涂层厚度:400nm、500nm、600nm。厚度5. 1. 2 抗蚀剂涂层均匀性:土4%;抗蚀剂涂层一致性z士7%。照附录A5. 1. 3 抗蚀剂的材料、涂层的典型技术参数见附录A(提示的附录)。5. 1. 4 抗蚀剂涂层厚度、均匀性及一致性的测试方法见GB7239。5.2 质量区平面度5. 2. 1 方型质量区和圆形质量区的区域见GB/T15871一1995中4.2。5.2.2 质量区内的有效平面度极限值按GB/T158
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