GB T 20724-2006 薄晶体厚度的会聚束电子衍射测定方法.pdf
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1、ICS 71. 040. 99 N 53 中华人民虫1工_,、和国国家标准G/T 20724-2006 薄晶体厚度的会聚束电子衍射测定方法Method of thickness measurement for thin crystal by convergent beam electron diffraction 2006-12-25发布中华人民共和国国家质量监督检验检菇总局中国国家标准化管理委员会2007-08田01实施发布中华人民共和国国家标准蒲晶体厚度的会聚束电子衍射副定方法GB/T 20724-2006 争e中国标准出版社出版发行北京复兴门外三里河北街16号邮政编码:100045网址电
2、话:6852394668517548 中国标准出版社秦皇岛印刷厂印刷各地新华书店经销* 开本880X 1230 1/16 印张O.5 字数B千字2007年6月第一版2007年6月第一次印刷* 书号:155066 1闰29497定价10.00元如有印装差错由本社发行中心调换版权专有侵权必究举报电话:(010)68533533前言本标准由全国微束分析标准化技术委员会提出。本标准由全国做束分析标准化技术委员会归口。本标准起草单位:北京科技大学。本标准主要起草人:柳得槽。本标准为首次制定。GB/T 20724-2006 I GBjT 20724-2006 薄晶体厚度的会聚束电子衍射测定方法1 范围本标
3、准规定了用透射电子显微镜测定薄晶体试样厚度的会聚束电子伺射方法。本方怯适用于测定钱度为10-0mO. 1 X 10m、厚度在几十至几百纳米范围的薄晶体厚度。俨,一一一一-4 原理在透射电子显微镜中的薄晶体试样被会黯电子束照射时,产生会聚束电子衍射图。利用双束近似条件下衍射盘内的Kossel-Mllenstedt条纹可精确测定薄晶体试样做区的厚度t。在政柬近似条件下晶面(hkl)衍射盘内的强度分布Ikl按式。)计算t1抽i=l qm2tJI王豆豆21HH-. . . . . . . . , . C 1 ) 1十(S.,1) _. 1 I 式中:5一-hkl衍射的偏离矢量值,单位为每纳米Cnm-1
4、);1 GB/T 20724-2006 IVd -一-hkl晶丽的消光距离,单位为纳米(nm); t一-晶体试样厚度,单位为纳米(nm)。第i条暗条纹出现的条件(lMZ=0)如式(2)所示:(t vHJSiEw牛n. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . ( 2 ) 山l式中z阶为整数,5j为(hkl)衍射盘内第i个强度极小值处对布拉格条件的偏离值,由此可得式(3): 的2+(tV/i)2-L1-=-1 I一.( 3 ) ni 飞陆1I飞jI t 在hkl:m射盘内测出三条以上晴条钱的5j值,并用最小二乘法拟合做出(5;/ni)2 (1/nj)
5、2直线,得出试样沿人射电子束方向的厚度to5 仪器设备5. 1 透射电子显微镜(配备双倾试样台或倾动转动试样台)。5.2 误差限为0.1mm的长度测量设备。6 试样6. 1 薄晶体试样,在电子束辐照下保持稳定。6.2 试样须制备成可满足透射电子显微镜观察的尺寸,萃取复型或粉末试样则制备在有支持膜的支持网上。6. 3 试样应清洁、干燥、无污染或氧化层,分析区无晶格畸变。7 实验步骤7. 1 按照GB/T18907-2002中6.1、6.2的规定,从薄晶体试样的选定分析区记录一个选区电子衍射图,标定其晶带轴指数uvwJo7.2 选择一个指数为hkl的衍射斑,倾转试样获得该衍射斑点与中心直射斑点的双
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