SJ 20185-1992 半导体分立器件2DW232~236型硅电压基准二极管详细规范.pdf
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1、FL 5961 ,、7 ) 2 口口/鸟、_主Semiconductor discrete device Detail specification for silicon SJ 20185 92 自d voltage reference diodes for types 2DV232-236 1992-11-19发布1993-05四01实施中国电子工业总公司批准 1 范围1. 1 中华人民共和国电子行业军用标准半导体分立器件2DW232r 236型硅电压基准二极细规范Semiconductor discrete device Detail specification for silicon v
2、oltage reference diodes for types 2DW232 -236 内容SJ 20185 92 本规范规定了2DW232-2DW236型硅电压基准二极管以下简称器件的详细要求。该器件按GJB33b主bz D D1 J h L LI lZM (mA) 小功率信号二极管、稳压及基准电压二极管半导体分立器件外形尺寸半导体分立器件总规范半导体分立器件试验方法各项要求应按GJB33和本规范的规定。3.2 设计结构和外形尺寸-2一A3-02B 口unnom max 6.10 6.60 5.08 1. 01 0.407 0.508 8.64 9.39 8.01 8.50 0.712
3、0.787 0.863 0.740 1. 14 12.5 25.0 1. 27 功率降TA25C时(mW/C) 试方法SJ 20185 92 设计、结构和外形尺寸应按GJB33和本规范图1的规定。3.2. 1 引线材料和涂层引线材料应是可伐(铁、镇、钻合金、杜美丝铜被铁镇合金或铜丝等材料。引线涂层应镀金或镀银,亦可镀锡或漫锡。选用的材料和涂层可在订货单或合同中规定见6.2)。3.2.2 器件内部结构芯片与支架采用冶金烧结,芯片与内引线末端采用超声键合工艺。3.3 测试方法测试方法应按GB6571及本规范的规定。3.4 标志器件上的标志应符合GJB33及本规范的规定。3.4. 1 极性器件的阴极
4、以该极近旁的白色色点表示。4 质量保证规定4. 1 抽样和检验抽样和检验应按GJB33和本规范的规定。4.2 鉴定检验鉴定检验应符合GJB33的规定。4.3 筛选(仅对GT和GCT级筛选应符合本规范的规定。电特性测量应按本规范表4的规定进行,超过本规施表4中极限值的器件不出明队。筛选序号项目试验方法(GJB 128) 条牛要求极限l 内部目检(封帽前)2073 100% 2 寿命1032 150C士2C、96h100% 3 |热冲击1051 温度:一55士3C100% 度环)+125士2C循环5次25C时明显厅隅极限度下t10min4 加速度(离心加速度2006 Yj方向196000m/sz1
5、00% 20st60s 5 密封1071 a.试验条件H最大漏泄率:5mPacm3/s100% a. 。D f牛C一3一序号项目8 电老化9 I :最后Vz rz lR avz 11 外观检查4.4 质量一致性检验SJ 20185 92 (GJB 128) 1038 2071 续表条试验条件Bt=96h 件掉老化条件之后96h内完成全部参数测试。按表4步z=10mA VR=3.6V Tj=2SC I T2=7SC 打标志之后进行,用10倍双吕立体显微镜检查器件外观质量,剔除管壳、管腿生锈、变形、开裂及有其它缺陷的器件质量一致性检验应按GJB33及本规范表1、表2和表3的规定进行。4.4.1 A
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