SJ 20066-1992 半导体分立器件.2CL3型硅高压整流堆详细规范.pdf
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1、中FL 5961 1)11, Semiconductor discrete device Detail specification for type 2CL3 silicon high voltage rectifier stack 1992-11-19发布-泪:SJ 20066 92 1993胃。5-01实施中国电子工业总公司批准SJ 20066 92 子行业军用标准范半导体分立器件2CL3型硅高压整流堆详细Semiconduetor discrete devlce 中华人民共和Detail speciflcation for type 2CL3 silicon bigh voltage r
2、eetifier stack 1. 1 主题内本规范规定了2CL3型硅高压整流堆以下简称器件的详细要求。该种器件按GJB33(半体分立器件总规范的规定,提供产品保证的两个等级(GP和GT级).1. 2 外形尺寸外形尺寸见图1.Hdu节N,忑范25mta 外形图lOtnax 图12Smin 定值大1.3 VUM 101 JFSM Top T啕号T.=40 C T.=40 C tp=lOms (kV) (mA) (A) (C) (C) , 2CL3C 3 2CL3E 5 2CL3F 8 200 4 一55-+125一55-+1302CL3G 10 2CL3H) 15 -一 线傲地T.40C按2.3
3、5mA/C的漫泊使用.注:1)2) 1993-05-01熏1992-11-19发布电子工业总公司中1.4 主要电特性非另有规定,TA25 C 0 Vpy 号lpy=60伽nA(V) 2CL3C 15 仅:;L3E15 2CL3F 30 汉:;L3G30 2CL3H 45 2引体分小功率信号二极管SJ 20066 92 1.1 1., T,=100 C V.=V. V.=VUM A)A)5 80 2部分整流二极管及基准电压二极管试方法GB 4023 86 GB 6571 86 GJB 33 85 GJB 128 86 半导体分立器件总规范体分立3 3. 1 详细要求各需要求应符合GJB33和本规
4、范的规定.3.2 设计、结构和外形尺寸的设计、结构和外形尺寸应按GJB33和本规范图1的规定.3.2. 1 引出端涂层t . lpy=5伽nA1.=10臼nAs)0.3 引出端表面应为锡层.对引出端涂层另有要求时,应在合同或订货单中规定见6.1条)03.3 标志标志应按GJB33和本规范的规定.3.3. 1 极性标志志如图1所示.4 定4. 1 抽样和栓抽样和检验应按GJB33和本规范的规定.4.2 鉴定检验GJB 33的规定.4.3 筛选仅对GT级GJB汩的表2和本规范的规定.一2一SJ 20066 92 试试55 C 10次外,其余B 化老中一电队一孔一&TA=125C lR1、VFMTA
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