GB T 8005.2-2011 铝及铝合金术语 第2部分:化学分析.pdf
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1、ICS 25.220.01 H 60 每写中华人民共和国国家标准GB/T 8005.2-2011 铝及铝合金术语第2部分:化学分析Terms of aluminium and aluminium alloys 一Part 2: Chemical analysis 2011-05-12发布苦i轨防伪中华人民共和国国家质量监督检验检菠总局中国国家标准化管理委员会2012-02-01实施发布中华人民共和国国家标准铝及铝合金术语第2部分:化学分析GB/T 8005.2 2011 峰中国标准出版社出版发行北京复兴门外三里河北街16号邮政编码:100045网址电话:6852394668517548 中国标
2、准出版社秦皇岛印刷厂印刷各地新华书店经销峰开本880X 1230 1/16 印张0.75字数17千字2011年8月第一版2011年8月第一次印刷祷书号:155066. 1-43275定价16.00元如有印装差错由本社发行中心调换版权专有侵权必究举报电话:(010)68533533GB/T 8005.2-2011 目。吕GB/T 8005(铝及铝合金术语分为三个部分:一第1部分:产品;一一第2部分:化学分析;一第3部分:表面处理。本部分为GB/T8005的第2部分。本部分按照GB/T1. 1-2009给出的规则起草。本部分使用重新起草法参考EN12258-2: 2004(铝及铝合金一一术语和定义
3、一一第2部分:化学分析编制,与EN12258-2: 2004的一致性程度为修改采用。与EN12258-2: 2004相比,主要变化如下:增加了规范性引用文件GB/T17433(冶金产品化学分析基础术语); 一一增加条款3.54其他术语和定义;二删除对ISO的引用;-一一删除附录A。本部分由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。本部分起草单位:东北轻合金有限责任公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所。本部分主要起草人:周兵、席欢、胡智敏、刘双庆、王志超、郭瑞、侯向东、王涛。I 1 范围铝及铝合金术语第2部分:化学分析本部分规定了铝及铝合金中与化学分析有关的术语。本部分适用于铝
4、及铝合金的化学分析。2 规范性引用文件GB/T 8005.2-2011 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。GB/T 17433 冶金产品化学分析基础术语3 术语与定义3. 1 3.2 3.3 3.4 3.5 准确度accuracy 测量结果与被测量真值或约定真值间的一致程度。注:应用于一组试验结果时,准确度这个术语包括(或描述随机部分、共同系统误差或偏差部分。加法校正additive correction; correction by addition 分析物测量值的校正与
5、干扰元素含量成比例见式(1)。10盯=1- kaWint 式中:I回一-校正的测量值(强度); 1 -原始测量值(强度); 儿一一加法校正的校正因数;Winterferi中lement干扰元素的含量。注:光谱干扰、大多数的谱线叠加是加法校正的原因。分析物谱线analyte line 分析物的原子或离子发射的谱线。分析结analytical line 用于测定分析物含量或质量的分析物谱线。注:在一个分析过程中分析线是固定的。分析程序analytical program . ( 1 ) 分析具有相似基体样品的分析方法的一部分,主要形式是电子文档或电脑程序,记录详细的分析过GB/T 8005.2-2
6、011 程和测量参数,例如:漂移校正、评价函数、结果校正和计算分析极差。3.6 3. 7 3.8 3.9 分析方法analytical procedure 以文件形式建立分析方法,同整个分析过程紧密结合,方法中特别说明如下:分析,标样和再校准样品;一一样品的制备;测量仪器(例如:光密度计、光谱仪); 一一测量;校准和再校准;一一评估;一一精确度的确定;结果不确定度的确定;测定检出限;确定最低检测量。注:以前也曾称为指定分析方法和化学分析的标准方法。背景相当含量background equivalence content 背景相当含量与分析线的背景强度有关。注:背景相当含量取决于光谱仪的激发参数
7、和性能,例如:取决于分辨率和狭缝宽度;然而随着分辨率的提高背景相当含量将达到一个恒定的极限值。双点校准binaryCsample) calibration 双点校准用的双样包括分析物和基础元素。注1:由双点建立的校准系统也称为标准曲线。注2:一个多成分系统的评估经常以双点校准为基础(见3.53)。空白样品blank sample 空白样品大部分成分与分析样品相同,但不包含分析物或含量很少并已知含量。3. 10 空白溶液blank solution 空白溶液包含制备的样品溶液中所有杂质成分和基体,如同分析样品在相同或相近的浓度上影响测量值,但不含分析物本身。3. 11 插入法(内插法)brack
8、eting method 在两个校准样品的含量(浓度)之间通过线性内插法插入分析样品的含量(浓度)。3.12 校准样晶calibration sample 校准样品是已知组成及元素含量不确定度的均匀样品,在一段时间不会改变,并包含所有相关分析物。3. 13 校准溶液calibration solution 校准溶液的相关特点,例如样品基体的浓度、试剂、分析物等,都是已知和固定的。校准溶液是用来确定试液中分析物的浓度。GB/T 8005.2-2011 3.14 有证标准物质certified reference material (CRM) 具有认证证书的标准物质,其一个或多个特性值是由具有准确
9、可靠计量溯源性的分析方法确定的。每一个特性值均附有在某一置信水平的不确定度。注,:认证标准物质的定义见IS0手册30:1992.4.2.注2.先准备有证标准物质,然后通过测量整批次的代表样品以确定特性值在不确定度的限制内。3. 15 检出限detection limit 在给定置信水平1上,未知样品中分析物产生的绝对强度所对应的最低含量WL。一般,检出限有以下关系见式(2)J:WL =tt,1 .S A (叫.). ( 2 ) 式中:tt,l 二一置信水平为o一),自由度为f=(N-p)时,单9人mt分布的值(为己测定的校准函数系数的数量hN 一一校准中含量点的数量;SA (WL)一-分析的标
10、准偏差(一般是检出限切L的重复性标准偏差)。注:以前用术语检测能力表示分析过程关于检出限这一普遍特性。3. 15. 1 以空白值为基础的检出限detection limit based on blank values 多次测定与分析样品尽可能相似但不含分析物或含量很少的样品中分析物的强度,空白值Io,其标准偏差s(Jo)即为检出限。由式(2)得出式(3)和式(4):式中:SA (WL) = sCIo) /b1 01/瓦丰l/q)或WL二t/;1-.S CI口)/b1-IO/m十l/q)b1一一校准曲线的斜率,也称之为方法的灵敏度;m 一分析样品平行测定次数;q一一空白样品测定次数。注,:检出限
11、由空白值得出,很大程度上对应按照式(1)、式(2)、式(3)。注2:有时应用分析线附近的光谱背景或另一个被证实的密度,而不用分析线的空白值。3. 16 漂移drift 测量仪器任一性能特征随着时间的缓慢变化。3.17 漂移校正溶液drift correction solution 其中分析物的浓度足以记录漂移的溶液。如果有必要须校正。注,:雾化和发生器性能前后不一致引起激发温度的前后不一致,由此产生漂移。注2:通常使用的标准溶液包含分析物的最高浓度。3. 18 实验室样晶laboratory sample 为送往实验室而准备的,用于检验或试验。注:实验室样品平均化学组成应与该批受检样品相一致。
12、3. 19 谱线干扰line interference . ( 3 ) ( 4 ) 3 GB/T 8005.2-20门由那些与分析线没有分开的谱线引起的光谱干扰。注1:有时也叫谱线重叠。注2:谱线的重合与谱线的完全重叠一致。3.20 谱线轮廓line profile 谱线轮廓是覆盖其波长范围内谱线发射强度的分布。注1:谱线的轮廓可以用轮廓函数描述。注2:为了简单化,通常以半宽度来表示。谱线半宽度是谱线轮廊上峰值强度一半处的宽度,即半宽度。注3:谱线漂移是波长变化引起的。例如由于外加电场或磁场效应可以引起波长发生变化。3.21 基体效应matrix effect 由基体的物理特征、化学组成而引起
13、的干扰。注1:在多数光谱干扰和非光谱干扰中,基体效应是一个非常通用的术语。注2:这项干扰的校正计算有时叫做基体校正。注3:术语共存元素效应和第三元素效应将不再使用。3.22 3.23 记忆效应memory effect 测量仪器中残留物的影响。乘法校对multiplicative correction (correction by multiplication) 分析物测量值的校正与干扰元素的强度(浓度)、分析物的强度(浓度)成比例见式(5)J。I儿cco= 1(1 一hmWIn川川n旧盹、u白t恒eri盯吨element) 式中zI 二二原始测量值(强度); 1co 一一校正测量值(强度);
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