GB T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法.第4部分 电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量.pdf
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1、ICS 7712010H 17 缮雪中华人民共和国国家标准GBT 1 484942008工业硅化学分析方法第4部分:电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量Methods for chemical analysis of silicon metalPart 4:Determination of elements contentInductively coupled plasma atomic emission spectrometric method2008-0609发布 200812-01实施宰瞀徽鬻瓣警糌瞥星发布中国国家标准化管理委员会仅111刖 昂GBT 1484942008GBT 1
2、4849o999 5时,即可进行分析溶液(64)的测定,根据光强度和浓度的关系计算机自动给出样品中各元素的质量浓度。7分析结果的计算按式(1)计算各待测元素的质量分数:w(x)一!二鱼!丕!丕墨圣!Q:!m0式中:w(x)待测元素的质量分数,();C自工作曲线上查得被测元素的质量浓度,单位为微克每毫升(tgmL);C。 自工作曲线上查得空白试验溶液中被测元素的质量浓度,单位为微克每毫升(pgmL)y测定试液体积,单位为毫升(mI。);m。试料的质量,单位为克(g);R稀释系数。8精密度GBIT 148494200881重复性在重复性条件下获得的两次独立测试结果的测定值,在以下给出的平均值范围内
3、,这两个测试结果的绝对差值不超过重复性限(r),超过重复性限(r)的情况不超过5。重复性限(r)按表3数据采用线性内插法求得。表3l质量分数 O 005 0 0010 0 0050 0100 050 100l重复性限r 0000 5 0002 0 0 004 0 0011 0 03 00682允许差实验室之间分析结果的差值应不大于表4所列允许差。表4l质量分数 0005 0 0010 0 0050 0100 050 100I允许差R 0000 7 0002 0 0 005 0 0012 0030 0079质量保证与控制每月用自制的控制标样(如有国家级或行业级标样时,应首先使用)校核一次本标准分
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