GB T 18115.6-2000 稀土氧化物化学分析方法 电感耦合等离子体发射光谱法测定氧化钆中氧化镧、氧化铈、氧化镨、氧化钕、氧化钐、氧化铕、氧化铽、氧化镝、氧化钬、氧化铒、氧化铥、氧化镱、氧化镥和氧化钇量.pdf

《GB T 18115.6-2000 稀土氧化物化学分析方法 电感耦合等离子体发射光谱法测定氧化钆中氧化镧、氧化铈、氧化镨、氧化钕、氧化钐、氧化铕、氧化铽、氧化镝、氧化钬、氧化铒、氧化铥、氧化镱、氧化镥和氧化钇量.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《GB T 18115.6-2000 稀土氧化物化学分析方法 电感耦合等离子体发射光谱法测定氧化钆中氧化镧、氧化铈、氧化镨、氧化钕、氧化钐、氧化铕、氧化铽、氧化镝、氧化钬、氧化铒、氧化铥、氧化镱、氧化镥和氧化钇量.pdf（4页珍藏版）》请在麦多课文档分享上搜索。

1、中华人民共和国国家标准稀土氧化物化学分析方法电感捐合等离子体发射光谱法圳定氧化轧中氧化锢、氧化锦、氧化锤、氧化敏、氧化铅、氧化铺、氧化镇、氧化楠、氧化敏、氧化饵、GiT 18115.6 2000 氧化锤、氧化锤、氧化辑和氧化纪量Gadolinium oxide - Detcrmination of lanthanum oxide .cerium oxide. praseodymium oxide , neodymillm oxide .samarium oxide europum oxide. terbium oxide , dysprosium oxide , holmium oxide ,

2、 erbium oxide咽thuliumoxide.ytterbium oxide.lutetium oxide and yttrium oxide contents Inductively coupled plasma atomic emission spectrographic method 1 范围本标准规定了氧化乱中氧化制、氧化饰、氧化惜、氧化铁、氧化毛主、氧化销、氧化拭、氧化饷、氧t牧、氧化饵、氧化铭、氧化惊、氧化错和氧化忆含量的测定方法。本书f.ft适用于氧化轧中氧化搁、氧化饰、氧化锵、氧化铁、氧化锐、氧化筒、氧化饿、氧化铺、氧化软、氧化饲、氧化怪、氧化梅、氧化馆和l氧化忆含量的

3、测ii:测运范围见表L一氧化物| 4一氧化娴氧他饰氧化错氧化做氧化特氧化销锐他城2 方法提要测定范围.%0.0005-0.000 O. 00 OO. 0100 ll. 001 OU. 010 0 O. 000 50. 0100 Q. 000 5O. 0100 0.0日o2O. 0100 0.001 0-0. lno 0 友lIL一哩且生| 氧化铺l 氧化铁氧化饵氧化锤氧化铠氧化懵氧化纪十测定范围，队。.0005-(). 000 O. 001 OO川00O. 000 5O. 000 0.0005-0.010 G O. 000 z【号。010) Q. 000 2O. 010 i) Q. O 2-0

4、10 0 试样以盐酸溶解，在稀酸介质中，直接以氢等离子体光源激发，进行光谱测定。以系数法校正被测共仔元素的r扰.以基体匹自己法校正基体对iW定的影响。3试剂3. 1 过氧化氢(30%)。3. 2 盐酸(1十1)。3. 3 硝酸(1+1)。3.4 氯气C99.99 %)。3. 5 氧化名L标准溶液称取25.000 () g经9c灼烧1h的氧化L( 99. 999 %), Ii t 250 mL也是杯国家质量技术监督局200006-05批准2000 -11 01实施159 GnT 18115.6-2000 小加入100ml.盐F设(3.2).低温溶解盯.取1、冷却，移入250mL容量瓶中.肘Jj(

5、附释古、主!ll主.i-tj此应液1mL含100mg氧化tL.3. 6 氧化书商标准贮1f溶液:科:淑100)只泾900C灼烧1h的氧化制飞99.只)，ivr lM)山L说杯中.I川|入10mL盐酸(3.2)咱低混熔解后，取下冷却.移入100mL容量瓶中，用水稀f号:剥皮，ffUI3itt?;液1mI.含1mg氧化制3自将此j容液稀释成1ml.含100宫和1mL介10Ig草Ut制的中1而l作FYfE.i17121豆均为含5%盐酸。3. 7 氧化饰标准贮存;在浓的、鼠。.JO I) 0 g纶900C灼烧1h的氧化销99.99%).1吃Il川011忧杯中.IJU人ll)mL /;i;、酸0.2).

6、低114.溶解后，取F冷却，移入J00 ml.容量瓶中，)jj水稀释主，主J度.j日台j此j有浓1ml.含1mg氧化锵。再将此?香液稀释成1ml.含100问和11 ml.含10E氧化倍的标rw.lifWz拭目主度均为含5%盐酸D3- 9 氧化铁标准贮存前液称取O.100 0 g经900C灼烧1h的氧化铁C99.D9 % ). tl:于100 m 1. 11:怀中.Jm入10mL盐酸(3.2)咽低温溶解后，取干冷却，移入100mL容量瓶中.用水稀释至刻J)，也匀。Jlti杏液1mL含1mg氧化铁。再将此济液稀释成1mL含J00 I和1mL 1可10阳氧化蚀的中iF.济液.H、自费j且均为含5%盐

7、酸。3.10 氧化侈标准存溶液:称取O.100 () g r7. 900 c灼烧1h的氧化t;( 99.%).( r 100 m恍杯中.如l入10ml.盐酸(3.2) ，低温溶解后，取F冷却，移入100mL容进瓶中用水稀释至:IJtt . i日匀此洛液1ml.含1mg氧化钞。再将此溶液烯释成1mL含100E和1mL含10，g氧化钉的标准i在液.n酸度均为含5%盐酸。3- 11 氧化钳标准贮存溶液:码;lfj(O. 100 0 g经900(、灼烧1h的氧化销99.99%)，;寸r! 00 时，烧杯中.加入10mL盐酸(3.2)，低温洛解后.取F冷却J，移入100mL容量瓶It I ，用水稀释:L

8、刻度，混二、I，比溶液1mL含1mg氧化销。再将此溶液稀释成1mL .&;-100附和1mL含10Ig氧化销的h;$浴液.民酸度均为含5%盐酸。3- 12 氧化镇标准贮存溶液称取O.IOOOg经900c .tf.J烧1h的氧化做(99.99%). fii:-f 100时，饶杯中.加入10mL盐酸(3.2)，低温溶解后，取下冷却.移入100mL容量瓶中.用水平带释至到皮，混乞!此洛液1mL含1mg氧化钱。再将此Iit液稀释成1mL含100阳和1ml.含10问氧化傲的仰月111寄浓.ft酸度均为含5%盐酸。3.13 氧化4商标准贮存溶液:科:取O.100 0 g经900(灼烧1h的氧化锅(99.9

9、9%).，1)主100时，快杯中，JJn入10mL盐酸(3.2).jij;温熔解后，取1了冷却J，移入100mL容量iII(中，用水陆将证刘jJ.!f，匀。此j容液1mL含1mg氧化梢。再将此溶液稀释成1mL含100何和1mL含10问氧化销的标准济液.民酸度均为含5%盐酸。3.14 氧化钦标准贮存熔液称取O.100 0 g经9OC灼烧1h的氧化钦 9D. 9D ) . )与i:F U)I) mL忱4O C.T 18115.6 2000 杯中.加入0n汀，EL峻3.刀，低温iW解J12.取1、拎却移100mL待地脱l，片jJ)(前释军主ljJ-主1ll，匀。此溶液JmL rng氧化?fp闯将此情

10、液附中半成1mL 10111-区和1ml.台10问轼Itt去的际准溶液.实限度均为fT5%住院D3. 17 氧化馆标准贮仔洛液:林取O.100 ()日给日川L灼烧1f飞的氧化馆(99.99川)-iytl lofjmL沈杯中，加入10ml哉酸C).2)，低温溶解后.11F冷Aj.千名入10()01I容71iIt，!jj1)(稀释斗、纠度，JLt匀、此济;在1mL含Jmg氧化擒。再将此溶液f川.99;-:)，)气JlOU mL饶杯叶1.加入10mL盐酸(3.2)，低温溶解后，取F冷却J 11:入H)OmL容1it丹在中.I水稀释中:钊度01昆毛一L此j容榄1mL含1mg氧化倍。闯将此榕液稀将成1r

11、nI. f 1 O(l /Lg拍11 1址，介10!lg氧!七倍的际准jft;在.扫:酸度均为含:%盐酸n3. 19 氧化忆标准贮J溶液z称取().100 0 g经川oc川门饶h (1;氧化记(99.99川).1,: f (1 0 ml.烧杯中咱加入10mL战酸(3.2) ，低漏溶解后可取T冷t.p，移入100mL将ltt版中，月JJj(间ff司1刻IE-JU匀3此溶液1mL 亏1mg氧化忆。再将此溶液稀释成1mL含IOOlg币11 011含10问氧化纪的标准消戒，:Jt 自主度均为含5%盐阪俨4 仪器4. 1 汁功帆，控制顺序扫描单色仪倒数线色散旦在不大于0.26nm/mm(一级光谱儿4.2

12、 Jt源，ii1哼离子体光源，使用功率不小f1.2kW.5试样将试样子900(:灼烧1h , r辈子干燥器中.冷却至室温，立即称险巳6 分析步骤6. 1 分析试浓的配制两:取1.000 0 g试样(日，说于100mL烧杯中.加入10mL故酸(3.2). r低i目j轩解fEi冷去Il军军i且吨移入100mL容与+瓶中.用水稀释至刻度.在匀，待用。6.2 标样j占液的配制将氧化L标准溶液(3.5)和I各稀k氧化物标准溶液(3.63. 19)搜表2分别移入5个I(川mjJ在Jt瓶中.Im入10m l. f.酸(3.幻，用水稀释至刻度，说匀，制得h个标样溶液。点，2 lt口二IU山川川一PIl-u料p

13、l j咄氧痒、一浓一情一蜘-EOO-mU川;二士一阳0(2日创一一棉一节(). 10 O. 05 O. (:; JI II2 际液斩、一习l | 氧化轧l 氧化搁L ! 1 川。o:|川loo; 扣、液hHf下飞了一一一一!氧化城|氧化铺O. 25 。254 0, 50 O. ,)() 1. 00 1 . I ( I !til G8/T 18115.6-2000 6. 3 测定6. J 1 测定条件:敏等离F体光源:入射功率1.llkW，反射功率小于0.05kW。氯气流址:冷却气流量1 O.(Jl ( (10, (J OO :S(. li 1 n O.on(! 1-.-0. (!() u 。.()(l C 1-向.1)(1(, O. on( 60.002 0卢-0，01002( 氧化铅一1 氧化饰1). 001 OO. 0020 氧化锚氧化挝0. 002 OO. 0100 ., . 氧化铁氧化钳0.000 20, 0005 I)I 氧化憾0.川o5,._. Q. 002 0 等理化懵0. 002 OO. 0100 二l氧化纪4t 2