DIN EN 16602-60-12-2014 Space product assurance - Design selection procurement and use of die form monolithic microwave integrated circuits (MMICs) English version EN 16602-60-12 2.pdf
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1、Dezember 2014DEUTSCHE NORM DIN-Normenausschuss Luft- und Raumfahrt (NL)Preisgruppe 21DIN Deutsches Institut fr Normung e. V. Jede Art der Vervielfltigung, auch auszugsweise, nur mit Genehmigung des DIN Deutsches Institut fr Normung e. V., Berlin, gestattet.ICS 49.140!%=Z“2265561www.din.deDDIN EN 166
2、02-60-12Raumfahrtproduktsicherung Design, Auswahl, Beschaffung und Nutzung von MMIC;Englische Fassung EN 16602-60-12:2014Space product assurance Design, selection, procurement and use of die form monolithic microwave integratedcircuits (MMICs);English version EN 16602-60-12:2014Assurance produit des
3、 projets spatiaux Conception, slection, approvisionnement et utilisation de circuits intgrs monolithiquehyperfrquence de forme die;Version anglaise EN 16602-60-12:2014Alleinverkauf der Normen durch Beuth Verlag GmbH, 10772 Berlin www.beuth.deGesamtumfang 58 SeitenDIN EN 16602-60-12:2014-12 2 Nationa
4、les Vorwort Dieses Dokument (EN 16602-60-12:2014) wurde vom Technischen Komitee CEN/CLC/TC 5 Raumfahrt“ erarbeitet, dessen Sekretariat vom DIN (Deutschland) gehalten wird. Das zustndige deutsche Normungsgremium ist der Arbeitsausschuss NA 131-10-01 AA Interoperabilitt von Informations-, Kommunikatio
5、ns- und Navigationssystemen“ im DIN-Normenausschuss Luft- und Raumfahrt (NL). Dieses Dokument (EN 16602-60-12:2014) basiert auf ECSS-Q-ST-60-12C. Dieses Dokument enthlt unter Bercksichtigung des DIN-Prsidialbeschlusses 1/2004 nur die englische Originalfassung von EN 16602-60-12:2014. Dieses Dokument
6、 wurde speziell zur Behandlung von Raumfahrtsystemen erarbeitet und hat daher Vorrang vor jeglicher Europischer Norm, da es denselben Anwendungsbereich hat, jedoch ber einen greren Geltungsbereich (z. B. Luft- und Raumfahrt) verfgt. DIN EN 16602-60-12:2014-12 3 Nationaler Anhang NA (informativ) Begr
7、iffe und Abkrzungen 3 Begriffe und Abkrzungen 3.1 Begriffe aus anderen Normen Fr die Anwendung dieses Dokuments gelten die Begriffe und Definitionen nach ECSS-S-ST-00-01. Fr die Anwendung dieses Dokuments gilt der folgende Begriff nach ECSS-Q-ST-60-05: Prozessidentifikationsdokument 3.2 Fr diese Nor
8、m spezifische Begriffe 3.2.1 Chargenlos Wafer aus den gleichen Ausgangswerkstoffen, die im Fertigungsablauf (Diffusion, Metallisierung und Passivierung) in einem begrenzten und kontrollierten Zeitraum gemeinsam verarbeitet werden ANMERKUNG Damit die Verarbeitungsschritte rckverfolgt werden knnen, we
9、rden ein Chargenlos und jeder Wafer mit einem eindeutigen Kennzeichen oder Code bezeichnet. 3.2.2 Prfung der Designregeln Kontrollverfahren zur berprfung, ob die Designregeln erfllt sind ANMERKUNG 1 Die Designregeln werden im Allgemeinen vom Zulieferer erstellt. ANMERKUNG 2 Die berprfung der Designr
10、egeln erfolgt mit Hilfe von Software. 3.2.3 Konstrukteur Entwickler Organisation, die fr das Design der MMICs verantwortlich ist 3.2.4 Die-Los Dice-Los alle Dies, die aus einem einzigen Waferlos stammen 3.2.5 Prfung der elektrischen Regeln Kontrollverfahren zur berprfung, ob die elektrischen Regeln
11、erfllt sind ANMERKUNG Die elektrischen Regeln werden im Allgemeinen vom Hersteller erstellt. 3.2.6 evaluierter Prozess ausgereifte Technologie, die zum Nachweis der Leistungs- und Zuverlssigkeitsgrenzen einer Reihe von elektrischen Tests und Umweltprfungen erfolgreich unterzogen wird ANMERKUNG 1 ECS
12、S-Q-ST-60-01 enthlt eine Liste der evaluierten Prozesse. ANMERKUNG 2 Die Spezifikation ESCC269010 definiert die Anforderungen an die Evaluierung. DIN EN 16602-60-12:2014-12 4 3.2.7 Hersteller Wafer-Fabrik, die fr die Fertigung der MMICs verantwortlich ist 3.2.8 Prozesskontrollmonitor Testgert, das v
13、om Zulieferer verwendet wird, um die Stabilitt des Fertigungsprozesses mit Hilfe von Kontrollen, die whrend eines Zyklus der Waferherstellung durchgefhrt werden, zu beurteilen ANMERKUNG Der PCM wird bei jedem Waferlos mehrmals (je nach Hersteller) eingesetzt. Die mit dem PCM gewonnenen Messwerte wer
14、den verwendet, um den Wafer entsprechend den im Design-Handbuch festgelegten relevanten DC- und RF-Kriterien anzunehmen oder zu verwerfen. 3.2.9 Fertigungslos Gertetypen, die in der gleichen Fertigungsanlage aus den gleichen Rohstoffen gefertigt wurden und nach den gleichen Fertigungsverfahren und -
15、kontrollen mit der gleichen Art von Gerten verarbeitet wurden ANMERKUNG Ein Fertigungslos darf aus einem oder mehreren Chargenlosen bestehen. 3.2.10 qualifizierter Prozess Prozess, der einem formellen Qualifikationstest erfolgreich unterzogen wurde ANMERKUNG Die Spezifikation ESCC 20100 definiert di
16、e Anforderungen an die Qualifikation. 3.2.11 Maske durch das Design auf Maskenebene definierter Bereich von Schaltkreis-Layouts (MMIC, TCV, DEC, PCM) zur Vervielfltigung ber den gesamten Wafer whrend der MMIC-Fertigung 3.2.12 statistische Prozesskontrolle Mittel zur Kontrolle der Qualitt und der Sta
17、bilitt des technologischen Prozesses ANMERKUNG SPC wird bei verschiedenen Fertigungsschritten zur Messung und Analyse der Schlsselparameter unter Verwendung geeigneter Verfahren implementiert. 3.2.13 Kachelgrafik Kachel siehe Maske 3.2.14 Nutzer Person, die fr die Integration der MMICs auf hherer Eb
18、ene verantwortlich ist ANMERKUNG Beispiel: MMICs werden von Nutzern beispielsweise in Module, Hybride oder Gerte integriert. 3.2.15 validiertes Design Design, das einem Annahmetest und einem LAT-Test des MMIC-Nutzers erfolgreich unterzogen wird 3.2.16 validierter Prozess Prozess, der beurteilt oder
19、qualifiziert wird DIN EN 16602-60-12:2014-12 5 3.2.17 Waferlos Wafer, die aus einem oder mehreren Losen gefertigt wurden ANMERKUNG Je nach Prozessfortschritt wird ein Waferlos wie folgt definiert: Fall 1 (nicht beurteilter oder qualifizierter Prozess): ein Waferlos ist ein einzelner Wafer; Fall 2 (b
20、eurteilter oder qualifizierter Prozess und neues MMIC-Design): ein Waferlos ist ein Chargenlos; Fall 3 (ausgereifter Prozess und sich wiederholendes MMIC-Design): ein Waferlos wird als Fertigungslos aus 4 Chargen angesehen, die innerhalb von 3 Monaten gefertigt wurden. 3.3 Abkrzungen Fr die Anwendun
21、g dieser Norm gelten die Abkrzungen nach ECSS-S-ST-00-01 und die folgenden Abkrzungen. Abkrzung Bedeutung AQL annehmbare Qualittsgrenzlage (en: acceptance quality level) CTA Bauartzulassung des Schaltkreises (en: circuit type approval) DEC Dynamischer Auswertstromkreis (en: dynamic evaluation circui
22、t) DRC Prfung der Designregeln (en: design rules check) ERC Prfung der elektrischen Regeln (en: electrical rule check) HTRB Hochtemperatur-Sperrvorspannung (en: high-temperature reverse bias) LAT Los-Abnahmetest (en: lot acceptance test) LTRB Niedertemperatur-Sperrvorspannung (en: low-temperature re
23、verse bias) MMIC monolithische mikrowellenintegrierte Schaltung (en: monolithic microwave integrated circuit) PAD Teilezulassungsdokument (en: part approval document) PCM Prozesskontrollmonitor (en: process control monitor) PID Prozessidentifizierungs-Dokument (en: process identification document) R
24、GA Restgasanalyse (en: residual gas analysis) SAM Akustische Mikroskopie Rasterultraschallmikroskopie (en: scanning acoustic microscopy) SEM Rasterelektronenmikroskop (en: scanning electron microscope) SEU Einzelereignis-Upset (en: single event upset) SPC Statistische Prozesslenkung (en: statistical
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