JB T 5575-1991 真空蒸发光学镀膜设备.技术条件.pdf
《JB T 5575-1991 真空蒸发光学镀膜设备.技术条件.pdf》由会员分享,可在线阅读,更多相关《JB T 5575-1991 真空蒸发光学镀膜设备.技术条件.pdf(7页珍藏版)》请在麦多课文档分享上搜索。
1、J tI 中华人民共和国机械行业标准J8/T 5575-91 真空蒸发光学镀膜设备技术条件1991-07-16发布1992-07-01实施机械电子工业部发布中华人民共和国机械行业标准J BfT 5575-91 真空蒸发光学镀膜设备技术条件1 主题内容与适用范围:Lj三标准规定了真空蒸发光学镀膜设备的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、这瑜、贮存等要求。本标准适用于油扩散泵系统的真空蒸发光学镀膜设备。2 引用标准GB 11164 真空镀膜设备通用技术条件GB 6070 真空法兰GB 191 包装储运指示标志3 技术要求3.1 正常工作条件a. 环境温度:10-30oC; b. 环境相对湿度
2、z不大于80%;C. 冷却水进水温度z不高于25CC;d. 冷却、加热等循环用水的质量z采用城市自来水或质量相当的7(;e. 供电电源:380V三相50Hz或220V单相50Hz(由所用电器需要而定。电压波动范围:342-399V或198.231V。频率波动范围:49-51Hz; f. 设备工作场所z室内应整沽,地面、天花板及设备周围墙壁应干净。3.2 基本参数设备的基本参数应符合下表规定。机械电子工业部1991-07-16批准1992-07-01实施JBjT 5575-91 丑王J I古J三数数矣LY ,巧r!J 名数320 , 500 , 630, 700 , 800 , 90 0 , 1
3、000, 镀膜室直径或宽度力l恢复真空抽气时间:从大气压抽I .,_ I :; lm3 i 镀膜1200 , 1400 , 1600 , 1800 . OOO 口1m用水冷挡板:三二5x 10- 用液氮冷阱:.:二:x 10- . 、-Ja p ,、:; 20 至7x 10丁Pa所需时间(用水冷 lm3 室30 4m3 容积(min) 挡板:; 9XI0-3 工作压力(pa) 。-200。-300烘烤温度调节范到分栏1。-350(C) 工件烘烤装置。一400有效加热区不应超过士15%加热均匀度允差3.3 结构要求3.3.1 设备的结构设计应布局合理,造型美观,操作简便,便于维修,并符合经济、安
4、全、高效的原则。3.3.2 设备中的真空管道,密封零部件法兰,密封圈等的结构型式和尺寸应符合GB6070的规定。3.3.3 在低真空军日高真空管道及镀膜室上应装设真空测量规管,分别测量各部位的真空度。3.3.4 设备使用的主扩散泵的进气口一侧应装设油蒸气捕集阱。3.3.5 设备的镀膜室应设有观察窗,对在镀膜过程中发生射线的设备,观察窗上应加装防射线装置。3.3.6 工件烘烤装置应有测温电极或测温装置。3.3.7 工件架旋转机构的转速应符合产品说明书的规定。3.3.8 设备应装设离子轰击装置或宽束低能离子源装置。在产品说明书规定的常用参数范围内应能正常连续稳定工作30min以上。3.3.9 设备
5、的淀积源的工作状况应稳定,并易于调节控制,对各种类型淀积源(如电阻蒸发源、电子束蒸发源等的技术要求由相应的产品标准予以具体规定。3.3.10 新设计的镀膜设备的结构必须留有膜厚和蒸发速率测量用及装四极质谱仪探头的备用孔,装膜厚修正挡板的固定点。3.3.11 新设计的生产型设备,其抽气过程操作,阅门启闭,膜厚测量,蒸发速率控制、镀膜室压力控制、蒸发挡板控制等均应尽可能采用自动控制。3.4 制造质量3.4.1 设备主要零部件的材料应符合相应的材料标准的规定,且应具有质量合机证书。如E书不全或制造部门有疑问时应由制造厂检验部门负责复验。以及2 JBjT 5575 91 3.4.2 镀膜室内壁表面及各
6、密封表面的粗糙度应达到Ra3.?.m。3.4.3 设备的零部件的机械加工质量及设备的焊接件的质量均应符合制造厂有关技术文件的规定。3.4.4 设备的装配质量应符合制造厂有关技术文件的规定,装配时对工作时处于真空的各表面应进行有效的真空清洁处理并予以干燥,各转动件装配后应能灵活转动,不得有卡滞、松抖现象,升降机构动作时应平稳,无抖动。用润滑脂的密封处应充满真空油脂。3.4.5 在被镀件加热过程中,设备应能正常连续工作,包括转动件转动自如,无卡滞、松抖等现象。3.4.6 设备所配用的自制或外购的零部件都应符合相应的产品标准的规定,并应具有质量合格证或经制造厂检验部门检验合格后方可配入设备使用。3.
7、4.7 设备配套的电气装置的制作质量应符合制造厂技术文件的规定,并应保证设备运行和操作时的安全可靠。装置中线路的排布应整齐、清晰、便于检修,装置中各电气回路的绝缘电阻值,对于500V以下,不得低于2MQ,对于501.-.1000V,不得低于2.5MQ,对1001.3000V,不得低于3.5MQ,对于3001.10000V,不得低于6MQ。3.4.8 设备的外观质量应做到没有非功能性需要的尖角、梭角、凸起及粗糙不平表面。零部件结合面的边沿应整齐匀称不应有明显错位。金属零件的镀层应牢固、无变质、脱落及生锈等现象,所有紧固件应有防腐层,设备的涂漆表面应光洁、美观、牢固、无剥落起皮等现象。3.4.9
- 1.请仔细阅读文档,确保文档完整性,对于不预览、不比对内容而直接下载带来的问题本站不予受理。
- 2.下载的文档,不会出现我们的网址水印。
- 3、该文档所得收入(下载+内容+预览)归上传者、原创作者;如果您是本文档原作者,请点此认领!既往收益都归您。
下载文档到电脑,查找使用更方便
5000 积分 0人已下载
下载 | 加入VIP,交流精品资源 |
- 配套讲稿:
如PPT文件的首页显示word图标,表示该PPT已包含配套word讲稿。双击word图标可打开word文档。
- 特殊限制:
部分文档作品中含有的国旗、国徽等图片,仅作为作品整体效果示例展示,禁止商用。设计者仅对作品中独创性部分享有著作权。
- 关 键 词:
- JB 5575 1991 真空 蒸发 光学 镀膜 设备 技术 条件
