GB T 20230-2006 磷化铟单晶.pdf
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1、ICS 29.045 H 83 gB 中华人民共和国国家标准G/T 20230-2006 磷2006-04-21发布化锢单Indium phosphide single crystal EI 日日中华人民共和国国家质量监督检验检瘦总局中国国家标准化管理委员会2006-10-01实施中华人民共和国国家标准磷化锢单晶C;HI丁202302006 * 中国标准出版社出版发行北京复兴门外三里河北街16号邮政编码:100045 网址电话:6852394668517548 中国标准出版社秦皇岛印刷厂印刷各地新华书店经销* 开本880X12301/16 印张O.5 字数9千字2006年10月第一版2006年
2、10月第次印刷兴书号:15S066 1-28063 定价8.00元如有印装差错由本社发行中心调换版权专有侵权必究举报电话:(010)68533533GB/T 20230-2006 目。昌本标准主要参考了SEMIM23-0302(磷化锢单晶抛光片),结合我国实际情况进行编写的。本标准由中国有色金属工业协会提出。本标准由信息产业部(电子)归口。本标准起草单位:中国电子科技集团公司第十三研究所。本标准主要起草人:孙聂枫、周晓龙、孙同年。磷化锢单1 范围巨2日日G/T 20230-2006 本标准规定了n型、半绝缘型。i)、p型磷化锢单晶链及单晶片的牌号、技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运
3、输、贮存等。本标准适用于高压液封直拉法(HP-LEC)制备的磷化锢单晶材料(以下简称单晶)。2 规范性引用文件下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。GB/T 1550 非本征半导体材料导电类型测试方法GB/T 1555 半导体单晶晶向测量方法GB/T 2828(所有部分)计数抽样检验程序GB/T 4326 非本征半导体单晶霍耳迁移率和霍耳系数测量方法GB/T 6618 硅片厚度和总
4、厚度变化测试方法GB/T 13387 电子材料晶片参考面长度测量方法SJ /T 3244. 1 GaAs和InP材料霍耳迁移率和载流子浓度的测量方法SJ/T 3245 磷化锢单晶位错密度测量方法SJ/T 3249. 1 半绝缘呻化嫁和磷化锢体单晶材料的电阻率测试方法3 要求3. 1 牌号磷化锢单晶的牌号表示方法为:HPLEC-InP口()-( ) 表示晶向表示导电类型,括号内的元素符号表示掺杂剂表示磷化锢单晶表示高压液封直拉法示例:HPLEC-InP-Si(Fe)-(1 00) .表示高压液封直拉法掺铁半绝缘(100)晶向磷化锢单晶。若单晶不强调生长方法和掺杂剂,则相应部分可以省略。3.2 磷
5、化锢单晶链的特性3.2. 1 磷化锢的导电类型分为n型、半绝缘型、p型。3.2.2 磷化锢单晶链的掺杂剂、霍耳迁移率和电阻率应符合表1的规定。G/T 20230-2006 表1磷化锢单晶的导电类型、掺杂剂、电学参数导电类型掺杂剂载流子浓度/迁移率/电阻率/C盯1-3cm2 / CV s) J CO cm) S 二:5X 10 二三500n型Sn 二三5X 1016 二三1000 半绝缘型Fe 二三1000 二主5X106 p型Zn 二主5X 1016 50 3. 2. 3 磷化锢单晶链的晶向为(00)、(11)。其他晶向由供需双方协商确定。3. 2. 4 磷化锢单晶链应元孪晶线、无夹杂、无3.
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