KS D 0259-2012 Methods of measurement of thickness thickness variation and bow for silicon wafer《硅片的厚度、厚度变化和弯曲度的测定方法》.pdf
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2、 2 8 2 9 3 10 4 11 5 12 5 13 .5 14 6 15 7 KS D 0259:2012 .8 KS D 0259:2012 , Methods of measurement of thickness, thickness variation and bow for silicon wafer 1 ( , .) , . 2 . . ( ) . KS B 5206, KS B 5247, KS I ISO 14644 1, 1: 3 . 3.1 3.2 (total thickness variation) 13.2 5 . 3.3 3.4 (bow) (median s
3、urface) . KS D 0259:2012 2 3 . 4 KS I ISO 14644 1 7 5 . 6 a) 4 . 2 , 2 90 . b) , 5 . c) 3 . 3 . . 7 7.1 KS B 5247 , KS B 5206 1 m . , , . 7.2 8 mm 3.5 mm . . 8 8.1 , 2 m . 2 mm2 . 8.2 2 mm ( 1 ). KS D 0259:2012 3 1 8.3 KS I ISO 14644 1 7 8.4 (scribe) 8.5 0.13 1.27 mm (0.130.025) mm . 8.5.1 0.25 m .
4、8.5.2 13 mm 1.6cm2 , 25 mm 2 2 m . 8.5.3 9.1 mm28.4 mm . 9 9.1 0.13 mm . 9.1.1 (production testing) (referee test) . 9.2 2 m . 9.3 9.2 0.13 mm 0.13 mm , ( 2 ). 6 mm4512330KS D 0259:2012 4 2 9.3.1 2 m , . 10 10.1 . 10.2 2 mm ( 1)( 1 ). 2 m , . 10.3 10.2 2 , ( 2)( 1 ). 10.4 90 3 2 mm , , ( 3)( 1 ). 10
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