DIN EN 62374-2008 Semiconductor devices - Time Dependent Dielectric Breakdown (TDDB) test for gate dielectric films (IEC 62374 2007) German version EN 62374 2007《半导体器件 与时间有关的栅极介电薄膜.pdf
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1、Februar 2008DEUTSCHE NORM DKE Deutsche Kommission Elektrotechnik Elektronik Informationstechnik im DIN und VDEPreisgruppe 15DIN Deutsches Institut fr Normung e.V. Jede Art der Vervielfltigung, auch auszugsweise, nur mit Genehmigung des DIN Deutsches Institut fr Normung e.V., Berlin, gestattet.ICS 31
2、.080.01!$K$v“1400183www.din.deDDIN EN 62374Halbleiterbauelemente Prfung des zeitabhngigen dielektrischen Durchbruchs (TDDB) frdielektrische Gate-Schichten (IEC 62374:2007);Deutsche Fassung EN 62374:2007Semiconductor devices Time Dependent Dielectric Breakdown (TDDB) test for gate dielectric films(IE
3、C 62374:2007);German version EN 62374:2007Dispositifs semiconductors Essai de rupture dilectrique en fonction du temps (TDDB) pour films dilectriques degrille (CEI 62374:2007);Version allemande EN 62374:2007Alleinverkauf der Normen durch Beuth Verlag GmbH, 10772 Berlin www.beuth.deGesamtumfang 24 Se
4、itenDIN EN 62374:2008-02 2 Beginn der Gltigkeit Die von CENELEC am 2007-10-01 angenommene EN 62374 gilt als DIN-Norm ab 2008-02-01. Nationales Vorwort Vorausgegangener Norm-Entwurf: E DIN IEC 62374:2004-09. Fr diese Norm ist das nationale Arbeitsgremium K 631 Halbleiterbauelemente“ der DKE Deutsche
5、Kommission Elektrotechnik Elektronik Informationstechnik im DIN und VDE (www.dke.de) zustndig. Die enthaltene IEC-Publikation wurde vom TC 47 Semiconductor devices“ erarbeitet. In Bild 3 setzt die Balkendarstellung fr die ISILC-Messung im 2. Intervall nicht zu dem in der vorangegange-nen Beschreibun
6、g unter Punkt f) festgelegten Zeitpunkt an. Danach darf sie erst nach der Wartezeit beginnen. Das zustndige IEC-Gremium wurde auf diesen Sachverhalt hingewiesen. Das IEC-Komitee hat entschieden, dass der Inhalt dieser Publikation bis zu dem auf der IEC-Website unter http:/webstore.iec.ch“ mit den Da
7、ten zu dieser Publikation angegebenen Datum (maintenance result date) unverndert bleiben soll. Zu diesem Zeitpunkt wird entsprechend der Entscheidung des Komitees die Publikation besttigt, zurckgezogen, durch eine Folgeausgabe ersetzt oder gendert. EUROPISCHE NORM EUROPEAN STANDARD NORME EUROPENNE E
8、N 62374 Oktober 2007 ICS 31.080 Deutsche Fassung Halbleiterbauelemente Prfung des zeitabhngigen dielektrischen Durchbruchs (TDDB) fr dielektrische Gate-Schichten (IEC 62374:2007) Semiconductor devices Time Dependent Dielectric Breakdown (TDDB) test for gate dielectric films (IEC 62374:2007) Disposit
9、ifs semiconductors Essai de rupture dilectrique en fonction du temps (TDDB) pour films dilectriques de grille (CEI 62374:2007) Diese Europische Norm wurde von CENELEC am 2007-10-01 angenommen. Die CENELEC-Mitglieder sind gehalten, die CEN/CENELEC-Geschftsordnung zu erfllen, in der die Bedingungen fe
10、stgelegt sind, unter denen dieser Europischen Norm ohne jede nderung der Status einer nationalen Norm zu geben ist. Auf dem letzten Stand befindliche Listen dieser nationalen Normen mit ihren bibliographischen Angaben sind beim Zentralsekretariat oder bei jedem CENELEC-Mitglied auf Anfrage erhltlich
11、. Diese Europische Norm besteht in drei offiziellen Fassungen (Deutsch, Englisch, Franzsisch). Eine Fassung in einer anderen Sprache, die von einem CENELEC-Mitglied in eigener Verantwortung durch bersetzung in seine Landessprache gemacht und dem Zentralsekretariat mitgeteilt worden ist, hat den glei
12、chen Status wie die offiziellen Fassungen. CENELEC-Mitglieder sind die nationalen elektrotechnischen Komitees von Belgien, Bulgarien, Dnemark, Deutschland, Estland, Finnland, Frankreich, Griechenland, Irland, Island, Italien, Lettland, Litauen, Luxemburg, Malta, den Niederlanden, Norwegen, sterreich
13、, Polen, Portugal, Rumnien, Schweden, der Schweiz, der Slowakei, Slowenien, Spanien, der Tschechischen Republik, Ungarn, dem Vereinigten Knigreich und Zypern. CENELEC Europisches Komitee fr Elektrotechnische Normung European Committee for Electrotechnical Standardization Comit Europen de Normalisati
14、on Electrotechnique Zentralsekretariat: rue de Stassart 35, B-1050 Brssel 2007 CENELEC Alle Rechte der Verwertung, gleich in welcher Form und in welchem Verfahren, sind weltweit den Mitgliedern von CENELEC vorbehalten. Ref. Nr. EN 62374:2007 DDIN EN 62374:2008-02 EN 62374:2007 2 Vorwort Der Text des
15、 Schriftstcks 47/1894/FDIS, zuknftige 1. Ausgabe von IEC 62374, ausgearbeitet von dem IEC TC 47 Semiconductor devices“, wurde der IEC-CENELEC Parallelen Abstimmung unterworfen und von CENELEC am 2007-10-01 als EN 62374 angenommen. Nachstehende Daten wurden festgelegt: sptestes Datum, zu dem die EN a
16、uf nationaler Ebene durch Verffentlichung einer identischen nationalen Norm oder durch Anerkennung bernommen werden muss (dop): 2008-07-01 sptestes Datum, zu dem nationale Normen, die der EN entgegenstehen, zurckgezogen werden mssen (dow): 2010-10-01 Anerkennungsnotiz Der Text der Internationalen No
17、rm IEC 62374:2007 wurde von CENELEC ohne irgendeine Abnderung als Europische Norm angenommen. DIN EN 62374:2008-02 EN 62374:2007 3 Inhalt Seite Vorwort .2 1 Anwendungsbereich.4 2 Begriffe .4 3 Prf- und Messeinrichtung .6 4 Prflinge .6 4.1 Allgemeines6 4.2 Teststruktur: Kapazitives Schaltungselement
18、(Kondensator) 6 4.3 Flche.7 5 Prfdurchfhrung7 5.1 Allgemeines7 5.2 Vorprfung9 5.3 Prfbedingungen9 5.4 Fehler- und Beurteilungskriterien.9 6 Lebensdauer-Schtzung 12 6.1 Allgemeines12 6.2 Beschleunigungsmodell .12 6.3 Verfahren zur Schtzung der Lebensdauer .15 7 Abhngigkeit der Lebensdauer von der Flc
19、he des Gateoxids .17 Anhang A (informativ) Ergnzende Angaben zur Bestimmung der Prfbedingungen und Datenanalyse .18 A.1 Beispiel fr die Bestimmung von Ustress18 A.2 blicher Wert des Beschleunigungsfaktors .19 A.3 Verfahren zur Erstellung von Kurvendiagrammen mittels Weibullfunktion.20 Literaturhinwe
20、ise 22 Bilder Bild 1 Prfablauf-Diagramm fr das CVS-Verfahren.8 Bild 2 Beispiel fr Anwendung des Varianzverfahrens zur Bestimmung des Durchbruchs11 Bild 3 Zeit-Diagramm fr die berprfung der SILC-nderung bei der Anwendung des Stress-Unterbrechungs-Verfahrens (tinitmuss 5 nm) hat der Tunnelstrom einen
21、vernachlssigbaren Effekt, sodass die hchsten Flchenbegrenzungen auf 1 103 cm2bis 1 101cm2ausgedehnt werden knnen. 5 Prfdurchfhrung 5.1 Allgemeines In diesem Abschnitt wird die Prfdurchfhrung erlutert. In Bild 1 ist der Prfablauf fr das CVS-Verfahren zu sehen. DIN EN 62374:2008-02 EN 62374:2007 8 Bil
22、d 1 Prfablauf-Diagramm fr das CVS-Verfahren DIN EN 62374:2008-02 EN 62374:2007 9 5.2 Vorprfung Es ist eine Vorprfung durchzufhren, um die bereits vor der Prfbeanspruchung existierenden fehlerhaften Prflinge (Initialfehler) zu ermitteln. Der Gatestrom wird bei angelegter Betriebsspannung gemessen. Fa
23、lls der gemessene Strom grer als der festgelegte Prf-Grenzwert ist, dann ist der Prfling als Initialfehler zurckzuweisen. Falls eine Ausfallverteilung gefordert wird, kann das CVS-Prfverfahren ohne Vorprfung effektiver sein. In diesem Fall kann die Vorprfung weggelassen werden. 5.3 Prfbedingungen 5.
24、3.1 Allgemeines Fr die TDDB-Prfung werden die folgenden Prfbedingungen empfohlen. Der Stichprobenumfang sollte so gewhlt werden, dass er das notwendige Vertrauensniveau fr die Anwendung ergibt. 5.3.2 Elektrische Feldstrke Ustressmuss mittels einer Versuchsbeanspruchung bestimmt werden, um die TDDB-L
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