GBZ T 201.1-2007 放射治疗机房的辐射屏蔽规范.第1部分 一般原则.pdf
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1、ICS 13.100 c57 GBZ 中华人民共和国国家职业卫生标准GBZ厅201.1-2007)飞.)L、 /兔d¥t放射治疗机房的辐射屏蔽规范第1部分:一般原则Radiation shielding requiremen臼inroom of radiotherapy installations Part 1: General principle 2007-09-25发布2008-03-01实施,飞哇舍中华人民共和国卫生部发布q GBZ/T 20 1. 1-2007 自次.m 1 范围2 术语和定义-3 治疗机房辐射屏蔽的剂量参考控制水平-4 治疗机房一般屏蔽要求.25 治疗机房辐射屏蔽核查
2、原则附录A(资料性附录)不同场所的居留因子. 7 附录B(资料性附录)周工作负荷W和周照射时间t的示例. 8 附录C(资料性附录)带有迷路的治疗机房及剂量关注点示意图.9GBZ/T 201. 1-2007 目U昌根据中华人民共和国职业病防治法制定本标准。GBZ/T 201(放射治疗机房的辐射屏蔽规范系列标准按部分发布,分为以下五部分:一第1部分:一般原则;一一第2部分:加速器;一一-第3部分:放射源;第4部分:中子;一一第5部分:质子。本部分是GBZ/T201的第1部分。本部分的附录A、附录B和附录C是资料性附录。本部分由卫生部放射卫生防护标准专业委员会提出。本部分由中华人民共和国卫生部批准。
3、本部分起草单位:北京市疾病预防控制中心。本部分起草人:委云、王时进、孟庆华、张浊。皿GBZ/T 20 1. 1-2007 1 范围放射治疗机房的辐射屏蔽规范第1部分:一般原则本部分规定了医用放射治疗机房(以下简称治疗机房)辐射屏蔽的剂量参考控制水平、一般屏蔽要求和辐射屏蔽评价要求。本部分适用于外照射源治疗装置的机房。本部分不适用于人体植人放射性核素粒子源的放射治疗房间和放射性核素源敷贴治疗的房间。2 术语和定义下列术语和定义适用于本标准。2. 1 放射治疗机房外控制区controlled areas out of radiotherapy room 直接与放射治疗机房相连接的与机房内治疗装置相
4、关的放射工作人员工作区,如治疗装置控制室、治疗装置辅助机房等。2.2 放射治疗机房外非控制区uncontrolled areas out of radiotherapy room 放射治疗机房外,除放射治疗机房外控制区以外的其他区域,包括放射肿瘤医师诊室、候诊室等。2. 3 居留因子loccupancy factor 在辐射源开束时间内,在区域内最大受照射人员驻留的平均时间占开束时间的份额。2.4 使用因子Uuse factor 初级辐射束(有用束)向某有用束屏蔽方向照射的时间占总照射时间的份额。2.5 工作负荷Wworlknoad 用以表示使用辐射源的工作量,用年(周)工作负荷表示。对于X射
5、线管装置常以年(周)累积出束的mA.min描述;对于远距离放射治疗装置,常以装置距靶点1m处的有用束或泄漏辐射的年.(周)累积剂量Gy描述;对于近距离后装治疗装置,常以年(周)累积治疗照射时间min或h 描述。2.6 源轴距source -axis distance ( SAD ) 沿着辐射束轴测量的辐射源与机架旋转轴之间的距离。2. 7 天空散射辐射slkyshine radiation 穿过辐射源屏蔽室顶的辐射与室顶上方空气作用产生的在辐射源屏蔽室外一定距离处地面附近人员驻留部位的散射辐射。2.8 侧散射辐射side-scaUered radiation 辐射源射入屏蔽室顶的辐射与屋顶屏蔽
6、物质作用所产生的并穿出屋顶的在辐射源至屏蔽室顶所张立体角区域外的散射辐射。侧散射辐射所关心的位置为辐射源屏蔽室外一定距离处人员驻留的建筑物中高于屏蔽室屋顶的楼层。2.9 屏蔽透射因子shielding transmission factor 屏蔽效果的一种度量,指在辐射源与某位置之间有屏蔽体和没有屏蔽体时,该位置的辐射水平的比俏。2. 10 泄漏辐射比率lealkage radiation ratio 在放射治疗装置治疗状态下,治疗装置机头有用束区外,距辐射源某距离处的泄漏辐射空气比释动能率与有用束中心轴上距辐射源相同距离处的空气比释动能率的比值。1 GBZ/T 201. 1-2007 2.
7、11 周围剂量当量H祷(d)ambient dose equivalent 辐射场中某点处的周围剂量当量H骨(d)定义为相应的扩展齐向场在ICRU球内逆齐向场的半径上深度d处所产生的剂量当量。对于强贯穿辐射,推荐d=10mm。3 治疗机房辐射屏蔽的剂量参考控制水平3. 1 治疗机房墙和入口门外的周围剂量当量率参考控制水平治疗机房墙和人口门外的周围剂量当量率应同时满足下列3.1.1和3.1.2的参考控制水平。3. 1. 1 距治疗机房墙和人口门外表面30cm处和邻近治疗机房的居留因子较大(T1/4)的人员驻留区域见式(1)。(1) 3. 1.2 MLJMVE叮pa-4 治疗机房一般屏蔽要求4.
8、1 屏蔽所考虑的环境条件4. 1. 1 治疗机房一般设于单独的建筑或建筑物底层的一端。治疗机房的坐落位置应考虑周围环境与2 GBZ/T 201.1-2007 场所的人员驻留条件及其可能的改变,并根据相应条件确定所需要的屏蔽。4. 1.2 在设计和评价治疗机房顶屏蔽时,应充分考虑天空散射辐射和侧散射辐射对治疗机房邻近场所中驻留人员的照射。4.4 治疗机房屏蔽的考虑因素4.4. 1 在放射治疗装置可选择的治疗条件中,应以贯穿能力相对强的辐射质和常用的最高治疗输出量为辐射源参量,并考虑在各屏蔽位置的所有初、次级辐射因素。4.4.2 治疗机房屏蔽的辐射剂量率参考控制水平。4.4.3 治疗装置应用的周最
9、大工作负荷和周治疗照射时间。4.4.4 使用宽束治疗装置时,可能的有用束照射方向的使用因子(U)。3 GBZ/T 201. 1一20074.4.5 治疗机房外围不同场所中的人员区域居留因子(T),参见附录A。治疗机房外围与治疗装置直接相邻场所的人员是主要考虑对象。当直接与治疗机房相连的某个处所用于居留因子较小(如T1/8)的场所时,还应考虑在较远处居留因子较大场所的公众成员。4.5 带迷路的治疗机房屏蔽的考虑因素/ 4.5. 1 在迷路内口处,应避免宽束有用束直接照射迷路外墙(参见附录C位置k),并尽可能避免4有用束和泄漏辐射直接照射迷路外墙。4.5.2 在满足4.5.1时,附录C位置k应考虑
10、可能受到的有用束和(或)世漏辐射的一次散射辐射照射。在不满足上述4.5. 1时,附录C位置k应考虑4有用束和(或)泄漏辐射的斜射照射。4.5.3 应考虑治疗机房内辐射源至迷路内口相应墙区(参见附录C位置i)的照射,及其至迷路人口的散射辐射剂量(见附录C路径。i-g)。4.5.4 迷路内墙应有足够的屏蔽厚度,使得过辐射源点穿过迷路内墙直接射向迷路人口的辐射剂量(参见附录C路径。-g)仅占入口处控制剂量的一个分数(如1/的。4.5.5 迷路内、外墙总的屏蔽应满足对外墙外部场所(参见附录C位置。中驻留人员防护。迷路内、外屏蔽墙应适当分配,使过辐射源垂直射向迷路内墙的辐射,经内墙屏蔽衰减后达到迷路外墙
11、内表面(参见附录C位置J点),并经其散射至迷路人口的辐射剂量(参见附录C路径。-j-g),仅占上述4.5. 3 的一个分数(如1/的。通常,迷路外墙内表面散射中心处(位置j点)的辐射剂量率应小于上述4.5. 3人口处(位置g点)剂量率的100倍,迷路外墙的屏蔽透射因子应小于10-204.5.6 迷路人口门的辐射屏蔽应综合考虑以上4.5.3、4.5.4和4.5.5项辐射的总和及各项所占的剂量份额和辐射质。4.5.7 治疗机房迷路应有足够长度。迷路的宽度应适合待安装设备和患者(病床)的通过。应注意到过宽的迷路将会增加迷路人口处的散射辐射剂量。在迷路内口(图C.1的h虚线处)设置过梁(迷路内口上部的
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