GB T 11164-2011 真空镀膜设备通用技术条件.pdf
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1、ICS 23. 160 J 78 道国中华人民共和国国家标准GB/T 11164-2011 代替GB/T11164 1999 真空镀膜设备通用技术条件Vacuum coating plant generic specification 2011-11-21发布2012-06-01实施现码防伪中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会发布GB/T 11164-2011 目次Titi41iqA吐FDFU存贮件uu输文运用义tz引定求法则叫性和要方规f围范语术验验志言范规术技试检标前1234567GB/T 11164-2011 目ljii 本标准按照GB/T1. 1-2009给出
2、的规则起草。本标准代替GB/T11164-1999真空镀膜设备通用技术条件,与GB/T11164 1999相比主要变化如下:一一为使用方便增加了目次;一一一修改了GB/T11164-1999中真空镀膜设备的压力范围,由10-4Pa10Pa修改为105 Pa 10 3 Pa; 一一修改了GB/T11164-1999表1中镀膜室尺寸分档,增加了300、400、450、1100、1350、2200、2 400、2500、2600、3200十档尺寸,并对带“祷”号尺寸优先选用进行了调整;修改了GB/T11164 1999表1中镀膜设备的分档,增加了C档镀膜设备,并增加或修改了各档镀膜设备的极限压力、抽
3、气时间及升压率指标;一因GB/T11164-1999中部分规范性引用文件已修订,故本标准引用现行标准;一修改了GB/T11164-1999的4.4. 6,用表格的方式规定了设备配套的电器装置中各电气回路的绝缘电阻值;一一一修改了GB/T11164-1999的4.5.4及4.5.12,增加了安全防护内容。本标准由中国机械工业联合会提出。本标准由全国真空技术标准化技术委员会(SAC/TC18)归口。本标准负责起草单位:北京北仪创新真空技术有限责任公司。本标准参加起草单位:上海曙光机械制造厂有限公司、兰州真空设备有限责任公司、成都南光机器有限公司、中国航天科技集团第五研究院第510研究所、上海惠丰石
4、油化工有限公司、沈阳真空技术研究所。本标准主要起草人:陈月增、谢钩荣、范立群、孙凯、温发兰、靳毅、刘强、惠进德、王学智。本标准所代替标准的历次版本发布情况为一二GB/T11164-1989、GB/T11164 19990 I GB/T 11164-2011 真空镀膜设备通用技术条件1 范围本标准规定了真空镀膜设备的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存等要求。本标准适用于压力在105 Pa 10 3 Pa范围的真空蒸发类、溅射类、离子镀类真空镀膜设备(以下简称设备)。2 规范性引用文件下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅所注日期的版本适用于本文件。凡是不
5、注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。GB/T 191-2008 包装储运图示标志GB/T 3163-2007真空技术术语GB 5226. 1-2008机械电气安全机械电气设备第1部分z通用技术条件GB/T 6070-2007真空技术法兰尺寸GB/T 13306-2011 标牌GB/T 13384 2008 机电产品包装通用技术条件GB/T 15945-2008 电能质量电力系统频率偏差GB 18209. 1 2010机械电气安全指示、标志和操作第1部分关于视觉、昕觉和触觉信号的要求JB/T 7673 真空设备型号编制方法3 术语和定义3. 1 3.2 3.3 GB/T
6、 3163 2007界定的以及下列术语和定义适用于本文件。极眼压力ultimate pressure 泵在工作时,空载干燥的真空容器逐渐接近、达到并维持稳定的最低压力。注:单位为帕(Pa)。恢复真空抽气时间pump-down time 真空系统正常工作时,将空载干燥的镀膜室从大气压005Pa)拍到规定的工作压力所需要的时间。注:单位为分钟(min)。升压率rate of pressure rise 将空载干燥的镀膜室连续抽气至稳定的最低压力后,停止抽气,在镀膜室内由于漏气或内部放气所造成的单位时间的升压。注:单位为帕每小时(Pa旧。1 GB/T 11164-2011 4 技术要求4. 1 设备
7、正常工作条件4. 1. 1 环境温度:1035。4. 1. 2 相对湿度:不大于75%。4. 1. 3 冷却水进水温度z不高于25。4. 1. 4 冷却水质z城市自来水或质量相当的水。4. 1. 5 供电电源:380V、三相、50Hz或220V、单相、50Hz(由所用电器需要而定);电压波动范围342 v 399 v或198v 231 v;根据GB/T15945-2008中的规定,频率偏差限值为土0.5 Hz,其频率波动范围49.5 Hz 50. 5 Hz 4. 1. 6 设备所需的压缩空气、液氮、冷热水等压力、温度、消耗量均应在产品使用说明书中写明。4. 1. 7 设备周围环境整沽,空气清洁
8、,不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。4.2 设备技术参数4. 2. 1 设备的主要技术参数应符合表1的规定。4.2.2 设备的型号应符合JB/T7673的规定。表1项次参数名称参数数值1 镀膜室尺寸分档mm300.、320、400、450、500.、600、630、700.、soo、900、1000骨、1100.、1 200、1250、l350、1400、1600、1800、2ooo、2200、2400、2500、2600、3200 分档八B c 真空极限压力Pa主5io-s 5 10-510 3 2 一指标拍气时间min(105 Pa 2 10-3 Pa)
9、王三20005 Pa 7 10-3 Pa)20 005 Pa 7 10 2 Pa)20升压率(Pa/h) 2 10-1主三810-1 2. 5 沉积源沉积源型式、尺寸、3 指标数量及最大耗电功率工件架尺寸及转动工件架方式4 指标工件烘烤方式及烘烤温度根据设计要求5 离子轰击,工件偏压功率6 膜厚监控方式及控制精度7 设备控制方式8 设备最大耗电量注1:所列镀膜室的几何尺寸,对圆筒式室体为圆筒内径;对箱式室体为箱体内宽度。带“笋”号尺寸优先选用,其他尺寸和其他结构形式的设备可由制造厂参照上述尺寸决定。专用设备由用户与制造厂另订协议。注2:本尺寸分档作为推荐值,不作考核。2 GB/T 11164-
10、2011 4.3 结构要求4. 3. 1 设备中的真空管道、静动密封零部件的结构形式和尺寸应符合GB/T6070-2007的规定。4.3.2 在真空管道及镀膜室上应安装真空测试规管,分别测量各部位的压力。4.3.3 如果设备的主泵为扩散泵时,应在泵的进气口一侧安装油蒸气捕集阱。4.3.4 设备的镀膜室应有观察窗,对在镀膜过程中发生射线的设备,观察窗上应加装防射线镜片。4.4 制造要求4. 4. 1 设备主要零部件制造所用的原材料应符合相应的材料标准的规定,且应具有质量合格证书。如证书不全或产生疑问时应由制造厂检验部门负责复验。4.4.2 设备的零部件的机械加工质量及设备的焊接质量均应符合制造厂
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