GB T 14146-1993 硅外延层载流子浓度测定和探针电容--电压法.pdf
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1、中华人民共和国国家标准硅外延层载流子浓度测定京探针电容-电压法Silicon epitaxial layers-Determination of carrier concentration Mercury probe Valtage-capacitance method 1 主题内容与适用范围本标准规定了硅外延层载流子浓度隶探针电容电压测量方法aG/T 1 4 1 4 6 - 93 本标准适用于同质的硅外延层载流子浓度测量。测量范围为1013._1018 cm-J 0 2 方法原理?在探针与硅外延片表面接触,形成个肖特基势垒。在采探针与硅外延片之间加反向偏后,结的势垒宽度向外延层中扩展。缩的势
2、垒电容(C)及其随电压(V)的变化率(d!dv)!cj势垒扩展宽度(I ) 何其相应的载流子浓度CN(叫有如下关系式中:x -势垒扩展宽度,p.m;1(.1 )一载流子浓度,cmag 户3, N(x) =L-一一-二i e。A2i dc I I dv) .r =。.A/C e 电子电荷.1.602 X 10-19 ,C , 硅的相对介电常数,其值为11.75,。一真空介电常数,其值为8.859X 10- .F/cm , A 录中硅接触面积,cm20. ( 1 ) ( 2 ) 只要测得Cdc/dv和IA ,便可由式(1)和式(2)计算得到势垒扩展宽度r处的NCr)0 3 试J与材料3. 1 氢氟
3、酸(p 1. 15日!mL),他学纯。3. 2 硝酸(p 1. 45 g!mL).化学纯。3. 3 去离F水,电阻率大于2Mfl cm(25 cl。3. 4 来,纯度大于99.99 %。3. 5 氮气,纯度大于99.5%。国家技术监督局1993-02-06批准1993-10-01实施三33GB/T 14146- 93 4 测量仪器4. 1 电容仪或电容电桥:量程为1 1 000 pF,其精度不低于1.()级.i圳垦频率为O.1 1 MI七.白流电压为士200V,高频交流电ffi不大于250mV 0 4.2 数字电压表其精度不低于0.5级,输入阻抗大于1MOo 4.3 直流电罚单:输出电压且O2
4、00 V,连续可i间,也压波动小大11%。4.4 直流电流表2垦程为。20I,Ao 4.5 标准电容A和B,A和B电容量分别为10pF和100pF,在测量频率t.其精度不低l0.25 4.6 双筒显微镜:带有测微标尺.长1mm,最小分度值为0.01mm , 4.7试样台能前后、左右移动。4. 8 也口I选用自动测量仪器。该仪器除满足4.14.4条各项要求外,汪应当符合. f丁。a 低!频交流电压的频率要小于测量电容所用的高频交流电斥的肺、卒1%.b 测量时低频交流电压值不低于10倍的高频交流电压值,c. dc/dv的测量误差最大为士2%;d. 反向电流密度可到30A/mm2,反向电流密度t升速
5、率为3AjVmm时,测量能正常进5 试验样品5. 1 试样处理通常对试样进行直接测f量,若不能进行正常测最时,nJ对试样表面进行处理。a 用氢氟酸腐蚀试样301.0b 用去离子水准净。c 在硝酸中煮沸1刊omi口川nd. 用去离F水洗净、甩干。e. 在温度150200C氮气流里烘干10mino f 也可代替本条中ce操作,将试祥在温度约450C的电炉烘烤10min 6 测量步骤6. 1 测量环绕温度为23士2C ,相对湿度不大于65%实验室应有电磁辱蔽.T丁顿电源应有i:m皮装讲,周围元腐11气氛及震动,试样应配有遮光装置。6. 2 1!容仪的校准6. 2. 1 把民度适当的屏蔽电缆接到电容仪
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