GB T 16921-2005 金属覆盖层 覆盖层厚度测量 X射线光谱法.pdf
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1、ICS 25. 220. 20 A 29 GB 中华人民共和国国家标准GB/T 16921-2005/ISO 3497 :2000 代替GH/T16921-1997 金属覆盖层覆盖层厚度测量X射线光谱方法Metallic coatings-Measurement of coating thickness X-ray spectrometric methods CISO 3497: 2000 , IDT) 2005-10-12发布2006-04-01实施中华人民共和国国家质量监督检验检瘟总局也世中国国家标准化管理委员会4叩GB/T 169212005/ISO 3497 ,2000 目次前言.1
2、范围术语和定义3 原理.2 4 仪器.川.川.川.川.,.影响测量结果的因素.川.叫.川. .川.8 仪器的校准.10 7 规程. . . . . . . . . . . 12 8 测量不确定度.139 测试报告.13附录A(资料性附录)常见覆盖层测量的典型测量范围.14 参考文献.15GB/T 16921-2005/1503497,2000 前言本标准等问采用ISO3497 ,2000(El(金属覆盖层覆盖层厚度测量X射线光谱方法)(英文版)。本标准按GB/T1. 1的编辑要求,根据ISO3497重新起草。本标准对应ISO3497作了如F修改.取消了ISO3497的前言内容,重新起草f本标准
3、前言;增加了目次内容j 用本标准代替本国际标准。本标准代替GB/T16921-1997(金属覆盖层覆盖层厚度测量X射线光谱方法儿本标准与GB/T16921-1997相比主要变化如下z在范围中增加了警告$在术语和定义中增加了基体材料、基体金属和基体的定义,且将归一化强度0997年版的2.3;本版的2.的的数学符号定义为0997年版为Inl.相应的数学关系式也随之改变;一在3.3.3能量色散中,将波长和能量的关系式进行了修正;在原理中,将其内容进行了重新排列,增加(3.5.3比率方法和3.7数学反卷积的描述;对5.1. 2随机误差的标准偏差5以及5.6覆盖层密度的公式进行了修正,对5.16试样表面
4、的倾斜度的影响,做了更精确的修正;在仪器的校准中增加了6.1.5计算机模拟主要参数的无标样技术的描述;本标准的附录A为资料性附录。本标准由中国机械工业联合会提出。本标准由全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会归口。本标准起草单位:机械工业表面覆盖层产品质量监督检测中心。本标准起草人z姜新华、凌国伟、刘建国、钟立畅、宋智玲。本标准所代替标准的历次版本发布情况为.GB/T 16921-1997 , GB/T 16921-2005/ISO 3497: 2000 金属覆盖层覆盖层厚度测量X射线光i普方法1 范围警告:本标准不包括人员防X射线辐射的问题,关于此重要方面的信息,可参考现行的国际和国家标准及
5、地方法规。1. 1 本标准规定了应用X射线光谱方法测量金属覆盖层厚度的方法。1. 2 本标准所用的测量方法基本属于测定单位面积质量的种方法。如果己知覆盖层材料的密度,则测量结果也可用覆盖层的线性厚度表示。1. 3 本测量方法可同时测量三层覆盖层体系,或同时测量三层组分的厚度和成分。1. 4 给定覆盖层材料的实际测量范围主要取决于被分析的特征X射线荧光的能量以及所允词的测量不确定度,而且因所用仪器设备和操作规程而不同。2 术语和定义下列术语和定义适用于本标准。2.1 X射线荧先X-ray f1uorescence (XRF) 高强度人射X射线撞击置于人射光束路径上的材料时产生的二次辐射固注z此二
6、次发射具有该材料的被长和能量特征。2.2 荧光辐射强度intensity of f1uor.四centradiation 辐射强度X,由仪器测量的、用每秒计数(辐射脉冲)来表示。2.3 饱和厚度saluration thickness 即为超过时,荧光强度不再产生任何可察觉的变化的厚度。注:饱和厚度取决于荧光辐射的能量或波长、材料的密度和原f序数、入射角度以及材料表面的荧光辐射合2.4 归一化强度normalized intensity 在|司条件下得到的覆盖层试样z和未涂覆基体材料工。的强度差与厚度大于或等于饱和厚度的材料(见2.3)和未涂覆基体材料品的强度差之比。注1归一化强度数学关革式为
7、式中,x 覆盖层试样的强度,2丁。未涂覆基体材料的强度,X. 厚度大于或等于饱和厚度的材料的强度。注2:归-化强度与测量和积分时间及激发入射辐射)强度壳关。激发辐射的几何结构和能量影响归一化的计数率,其值在0到1之间有效。GB/T 16921-2005/ISO 3497 :2000 2.5 2.6 2.7 2.8 申司覆盖层intermediate coatings 位于表面覆荒层和基体材料之间的厚度小于其每层饱和厚度的覆盖层。注.茬面覆盖层和基体材料(基体)之间厚度超过饱和厚度的任何覆盖层本身都可视为真正的是体,因为在这样的覆盖层下的材料不会影响测量.测量时可以不考虑.计数率count ra
8、te 每单位时间仪器记录辐射脉冲的数目(见2.2)。基体材料basis material 基体金属basis metal 在其表面沉积或形成覆盖层的材料ISO2080,1981,定义134Jo基体substrate 被种覆盖层直接沉积的材料ISO2080: 1981.定义630J。注2对于单的或第层镀层,基体与基体材料等同a对后续镀层,巾问镀层即为基体33 原理3.1 操作机理覆盖层单位面积质量(着密度己知,则为覆盖层线性厚度)和二次辐射强度之间存在一定的关系。对于任何实际的仪器系统,该关系首先由己知单仰面积质量的覆盖层校正标准块校正确定。若覆盖层材料的密度已知,同时又给出实际的密度,则这样的
9、标准块就能给出覆盖层线性厚度。注覆盖层材料密度是覆盖状态的密度,不一定是测量峙的穰盖层材料的理论密度。如果该密度与校正标准的峦度不同,应当采用个反映这种差别的革数并在测试报告中加以坪住荧光强度是元素原子序数的函数,如果表面覆盖层、中问覆盖层(如果存在)以及基体是由不同尼素组成或一个覆盖层由不止-个元素组成,则这也JG素会产生各自的辐射特征。J调节i革当的检测器系统以选择一个或多个能带,使此设备既能测量表面覆盖层又能同时测量表面覆盖层和一些中间覆盖层的厚度和组成。3.2 激发3.2.1 【般要求X射线光谱方法测定覆盖层厚度是基于柬强烈而狭窄的多色或单色X射线与主主体和覆古怪的相互作用。此相互作用
10、产生离散放长和能量的二次辐射,这些二次辐射具有构成覆盖层和基体的元素特征q高压X射线管发生器或适当的放射性同位素可产生这样的辐射。3.2.2 由高压X射线管产生稳定条件下如果对X射线管外加足够的电位,则能产牛适当的激发辐射。大多数厚度测量要求的外加电压约为25kV50 kV,但为了测量低原T序数锺盖层材料,口J能高必些将电II降至10kVo由于应用了安装在X射线管和试样之间的基色滤色器,降低了测量的不确定度。该激发方法的主要优点为:通过准直,能在很小的测量面L产生一束极强的辐射束;一一人身安全要求容局保证,通过现代电子学方法可获得足够稳定的发射。3.2.3 囱放射性罔位素产生只有几种放射性同位
11、素发射的y射线在能量带上适合覆荤层厚度测量。理想的是,激发辐射的能量比要求的特征X射线能量稍高(波长梢短),放射性同位素激发的优点在于仪器结构更紧凑,这主要GB/T 16921-2005/ISO 3497: 2000 是因为无需冷却。此外,可高ffiX射线管发生器不同,其辐射是单色的而且本底强度低。与X射线管方法相比,其主要技术缺点是.所得强度低得多,不能进行小面积测量,一曲放射性同位素半衰期短p高强度放射性同位素带来人员防护问题(高压X射线管可简单关闭L3.3 笆散3.3.1 一般要求覆盖层表由经X射线照射产生的二次辐射通常包含除覆盖层厚度测量所要求之外的成分。利用波长色散或能量色散可分离所
12、需要的成分。3.3.2 波长色做用个晶体分光仪可选择覆盖层或莘体的波民特征,现有的常用晶体典型特征辐射数据见各国权威机构的出版物。3.3.3 能量色散X射线量子通常是以波长或等效能量表示。披长和能量的关系式为:XE=l. 2398427 式中 波长,单位为纳未(nm);E 能量,单位为千电子伏特(keV),3.4 检测波长包散系统用的检测器类型由一充气管、固态检测器或与光电倍增器相连接的闪烁计数器构成。能量色散系统用的最适当的接收荧光光子的检测器由仪器设计者根据应用选定。在1.5 keV 100 h、v的能带范围内,口I在iF常气氛中进行测量,而不需氨气或真空。小同特征能量的荧光辐射光近人能量
13、也散检测器,然后再进入一多道分析仪以控制选择正确的能带。3.5 厚度测量3.5.1 发射方法若测量覆盖层的特征辐射强度,则在达到饱和厚度前,此强度将随厚度的增加而增加,见罔1a)。使用X射线发射方法时,将仪器调到接收选定的覆盖层材料的特征能量带,这样,薄覆盖层产生低强度而厚覆盖层产生高强度。3.5.2 吸收方法若测量基体的特征辐射强度,则此强度随厚度增加而减小,见图1b)。X射线吸收方法利用基体材料的特征能带。这样,薄覆盖层产生高强度而厚覆盖层产生低强度。在实际运用时,要注意确保小存在中间层。吸收特征与发射特征反向相似。3.5.3 比率方法覆盖层厚度用基体和覆盖材料各自的强度比表示时,则可能使
14、X射线吸收方法和发射方法结合。这种强度比率方法的测量基本同试样和检测器之间的距离无关。3.5.4 测量1、J:1. 5. 1和3.5.Z中所描述的两种方法,许多商用仪器常采用归一化计数率系统,将无覆盖层的基体的特征汁数率调整为0,而无限厚度的覆盖层材料的特征计数率为1,因此,所有可测厚度计数率都处于0到1的归一化汁数率范围。见图Z。在所有的情况下,测量的最好葫最灵敏范闹大约在0.3-0.8的特征计数率标度之间。因此,要在整个厚度范围得到最好的测量精度,宜用。.3-0.8的特征计数率值的校正标准。为r确保其他厚度的测量精度,俨些仪器可能用其他标准。因为校止标准的不确定度随厚度的减少而增加,所以通
15、过适当使用具有厚覆盖层而低不确定度的标准块,在厚度范围的薄端建立正确的数学关系。GB/T 16921-2005/1803497 ,2000 皿睛蜗牛旧时MMm题a) X射线发射方法b) X射线服收方法圄1强度或计数率与覆盖层厚度之间关系的固示覆盖层厚匮国民剖mRV酣睡KW晴圆64叶l 线性范围12 对数范围z3 双曲线植围,注.饱和基体丰覆盖)材料计数率O;饱和覆盖层(元限材料计数率1.图2单位面积质量与归-化计数率之间关系的圈未3.6 二次辐射的眼收器测量具有宽能量差异(能量色散系统的覆盖层/基体材料组合时,饱和厚度覆盖层和无覆盖层基体的特征计数率的比率很高(典型为10 )。在这种情况下,不
16、一定需要具有类似或相同基体的校正标准(因为基体材料将不辐射与覆盖层材料同样的能带)。当元覆盖层基体与元限厚覆盖层的计数率比为3 1日们对具有相似能量的覆盖层/基体组合),往往必须选用种吸收器,以吸收其中一种材料的辐射,通常指基体材料的辐射。这种吸收器通常是手动或自动放置在被测表面与枪测器之间。3.7 戴学反卷积在使用多道分析器时,二次辐射频谱的数学反卷积可求出特征辐射强度。当被检视特征辐射的能量不能充分地区分时,如来自金(Au)和黄铜(Br)的特征辐射,则可使用这种方法。这种方法被称为数字滤波而有别于滤波法(见3.们。3.8 多层测量只要内层的特征X射线发射不完全被外层吸收,则可以测量一层以上
17、的覆盖层。在一个能量色散系统中安装多道分析仪,用以接收两种或更多种材料的两个或更多个不同的特征能带巳3.9 合盒成分厚度测量某种合金和化合物,例如锡铅,可以同时测量其成分和厚度。在某些情况下,该方法也可在3.8描述的情况F使用,例如,铜合金基体上/镰/纪/金。因为合金或化合物的厚度测量取决于合金的成分,所归一化计撞事0.8 o. :1 GB/T 16921-2005/1503497,2000 以,必须在测量厚度之前知道或认定其成分或者能测量其成分。洼认定的成分会引人厚度测量误差,一些覆盖届会通过与基体的互相扩散形成合金,这种合盘层的存在可能增加测量的不确定度,4 仪器见图3图5,l 测试试样;
18、2一一准直器;3一一检测器34 吸收器,5-X射线发生器$6 试样主架;7 人射X射线光柬$8 检测和分析的特征荧光X射线光束,a 高压。固3X射线管图示GB/T 16921-2005/ISO 3497 ,2000 l 测试试样32 准直器p3 检测器p4 吸收器s5 X射线发生器$6 试样支架z7 人射X射线光束sB 检测和分析的特征荧光X射线光束。a 高压。固4带固体试样支架的X射线管图示GBjT 16921-2005月SO3497:2口生-f/3:lilL I 测试试梓52 同位章和准直器,3 人射X射线光束$4 检测和分析的特征荧光X射线光束$5 吸收器;6 检测器。图5罔位素作为初级
19、X射线源固示4.1 初级X射线源这是一个X射线管或适当的放射性同位素,两者都能激发测量用的荧光辐射。4.2 准亘器采用尺寸精确的单孔或多孔,这些孔在理论上可为任何形状。这种孔的大小和形状决定被测覆盖层表面的人射X射线光束的尺寸。现有商用仪器的准直器孔呈圆形、正方形或长方形。4.3 检测器接收被测样品的荧光辐射,并将它转化为进行评价的电信号,评价系统用于选择一个或多个表面覆盖层、中间层和/或基体材料的特征能带。G/T 16921-2005/ISO 3497 :2000 4.4 评价系统此系统根据软件程序处理获得的数据从而确定试样的单位面积覆盖层质量或覆盖层厚度。注,符合丰标准的测量穰盖层厚度的荧
20、光X射线近4盖在市场上可买到,覆盖层测厚专用设备属于能量色散提设备,常配有徽处理器,用以将强度测量转化为单位面积质量或厚度,以储存校止数据以及计算不同的统计测量。荧光X射线覆盖层测厚仪主要包括一个初级X射线椒、准直器、试样吉、检测器和一个评价系统。射线源、准直器和检测器通常相互几何固定。如果覆盖层和基体材料的原子序数非常接近,则要引人一吸收器吸收其中种材料如基体的特征荧光能量。5 影响测量结果的因素5.1 计数统计5. 1. 1 就时间而论.X射线量子的产生是随机的,这就意味着在一固定的时间间隔肉,发射的量f数不定总相同,于是产生了统计误差。这种统计误差是所有的辐射测量固有的。因此,一个短计数
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- GB 16921 2005 金属 覆盖层 厚度 测量 射线 光谱
