SJ 20011-1992 半导体分立器件GP、GT和GCT级CS1型硅N沟道耗尽型场效应晶体管.详细规范.pdf
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1、FL 5961 、,、型L回1 ,晶Semiconductor discrete device SJ 20011 92 Detail specification for silicon N channel depIition mode field effect transistor of types CSl、CS4、CS10GP ,GT and GCT cI asses 1992-02-01发布1992-05-01实施中国电子工业总公司批准1范中华人民共和国电子行业军用标半导体分立器件GP、GT和GCT级CS1型硅N沟道耗尽型场效应晶体详细规范Semiconductor discrete de
2、vice Detail spcification for silicon N channel deplition mode field effect transistor of type cS1 GP. GT and GCT classes 1. 1 主题内容SJ 20011 92 本规程规定了CSl型硅N沟道结型场效应晶体管(以下简称器件的详细要求,该种器件按GJB33 8525C时,按O.66mW;-C的速率线性降酬。n - ;, 一一SJ 20011 92 1.4 主要电特性(TA=2SC)参数型号符号单位试条件CS1A loss1) (mA) Vns=10V CSlB Vos一0CS1
3、C CS1D CS1A Vos坦10VCS1B V GS(of) (V) lD=1A CS1C CS1D Vos=10V lD-0.3mA F2) (dB) J听布型号f 1kHz RG=1MO CS1A Vos-10V CSlB 1 Yb 11 1) (S) Vos=O CS1C f-1MHz CS1D V凶-10VCi.(pF) VGS=o 所有型号f 1MHz 、Vns=10V C,.(pF) VGS 。所有型号f=1MHz 注:1 )脉冲法(见4.5.口。2) A档,在VGS=O条件下测试。2 引用文件GB 4586-84 GB 1581-87 GJB33-85 GJB128-86 场
4、效应晶体管测试方法半导体分立器件外形尺寸半导体分立器件总规范半导体分立器件试验方法极值小值大值0.03 0.35 0.3 1. 2 l 3.5 3 10 4 4 4 6 5 300 2000 500 3000 1000 4000 1500 5000 4 2 一3SJ 20011-92 3 3.1 详细要求各项要求应按GJB33和本规范的规定。3.2 设计结构和外形尺寸的设计结构和外形尺寸应按GJB33和本规范的规定。3.2.1 引出端材料和涂层引出端材料应为柯伐.引出端表团涂层应为镀金、镀锡或漫锡。对引出端材料和涂层要求选择或另有要求时,在合同或订货单中应明确规定(见6)3.3 标志器件的标志
5、应按GJB33的规定。4 ,足,4.1 抽样和检验样和检验应按GJB33和本4.2 鉴定检验鉴定G!B33的规定。4.3 (仅对GT和GCT级范的规定。筛选应按GJB33表2和本规艳的规定。下列测试应按本规范表1进行,超过规定极限值的器件不M接收。筛选i则试或试验GJB33表2GT和GCT级3.热冲击低550C,高温应为+175(;5.密封不要求6.高温反偏不要求-t 7.中间试hSS1、lres和1YI. 11 8.电老化见4.3. 1 9.最吕试本规范表1的A2分组;/:;.1 DSS =初始4.3. 1 功率老化条件VGS- 24V; Vos=O; TA=150C 4.4 质量一致性检验
6、检验应按GJB33的规定进行。4.4.1 A组检验的士10%; A组检验应按GJB33和本规范表1的规定进行。4.4.2 B组检验/:;.1 YI. 11 =初始值的士20%B组检验应按GJB33和本规范表2的规定进行。最后测试和变化量(/:;.)要求EE按本规觅一4一SJ 20011 92 表4的步。4.4.3 C组C组检验应按GJB33和本规范表3的规定进行.表4的步骤进行。4.5 检验和测试和变化量()要求应按本规拖方法应按本规施相应的表和下列规定。4.5. 1 脉冲测试脉冲测试应按GJB128的3.3. 2. 1的规定.表1A组极限一一一小值GB 4586 检验或试验符号单位方法条件A
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