GB T 29504-2013 300mm 硅单晶.pdf
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1、ICS 29.045 H 82 中华人民共和国国家标准GB/T 29504-2013 300阻m桂单晶300 mrn monocrystaHine sHicon 2014-02-01实施2013-05-09发布发布中华人民共和国国家质量监督检验检菇总局中国国家标准化管理委员会飞叮叮俨号屿飞吨乱叫田WJ时回垫rhr呢中华人民共和国国家标准300 mm磕单晶GB/T 29504-2013 4峰中国标准出版社出版发行北京市朝阳区和平里西街甲2号(100013)北京市西城区三里河北街16号。00045)网址总编室:(010)64275323发行中心:(010)51780235读者服务部:(010)68
2、523946中国标准出版社秦皇岛印刷厂印刷各地新华书店经销祷开本880X 1230 1/16 印张0.5字数10千字2013年6月第一版2013年6月第一次印刷* 15号:155066. 1-47271定价14.00元如有印装差错由本社发行中心调换版权专有侵权必究举报电话:(010)68510107G/T 29504-2013 目。昌本标准按照GB/T1. 1-2009给出的规则起草。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。本标准起草单位=有研半导体材料股份有限公司、中国有色金属工业标准计量质量研究所、万向硅峰电子股份有限公司、宁波立立电子股份有限公司。本
3、标准主要起草人:同志瑞、孙燕、卢立延、张果虎、楼春兰、刘培东、向磊。I GB/T 29504-2013 300 mm硅单晶1 范围本标准规定了直径300mm,p型、(100)晶向、电阻率0.5n . cm20 n . cm硅单晶的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存等。本标准适用于由直拉法制备的硅单品,主要用于制作满足集成电路IC用线宽O.13m及以下技术需求的300mm硅单晶抛光片2 规范性引用文件下列文件对本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注目期的手|用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。GB/T 1550 非
4、本在E半导体材料导电类型测试方法GB/T 1551. 2009 硅单111,f!1阻率测定方法GB/T 1554 硅晶体完整性化学择优腐蚀枪验方法GB/T 1555 半导体单晶晶向测定方法GB/T 1557 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法GB/T 1558 硅中代位碳原F含量红外吸收测量方法GB/T 11073- -2007 硅片径向电阻率变化的测量方法GB/T 14140 硅片直径测量)T法GB/T 14264 半导体材料术语YS/T 679 非本征半导体中少数载流子扩散长度的稳态表面光电压测试方法3 术语和定义GB/T 14264界定的术语和定义适用于本文件。4 技术要求4. 1 直
5、径滚圆后的硅单晶直径为301mm,允许偏差士0.3mm。其他用户要求及未滚圆硅单晶的直径和允许偏差由供需双方商定。4.2 电阻率4.2. 1 硅单晶的电阻率和径向电阻率变化应符合表1的规定。表1硅单晶电学参数项目导电类型掺杂元素指标p 跚电阻率。.cm0.5-20 径向电阻率变化% 10 1 GB/T 29504-2013 4.2.2 径向电阻率变化如要求按照其他方案进行,由供需双方商定。4.3 晶向4.3. 1 硅单晶晶向为(100)晶向。4.3.2 硅单晶晶向偏离度不大于10。4.4 氧含量硅单晶的间隙氧含量应不大于1.0X1018原子数/cm3,氧含量的径向变化具体指标可按需方要求提供。
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