GB T 11093-1989 液封直拉法砷化镓单晶及切割片.pdf
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1、-UDC 661. 868. 146-415 H 81 J伎共直单目目因GB 1109 3-8 9 及切割Liquid encapsulated czochralski-grown gallium arsenide single crystals and As-cut slices 1989-03 31发布1990-03 01实施国家技术监督局发布一一一一一一一一1 中华人民共和国国家标准液封直拉法碑化镇单晶及切割片Liquid encapsulated czochralskl grown gallium arsenide single口ystalsand As-cut slic回主题内容与适
2、用范围GB 11093-89 本标准规定了液封直拉法呻化惊单品及切割片的产品分类、技术要求、试验方法和检验规则等。本标准适用于液封直拉法制备的畔化鲸单品及其切割片产品供制作光电器件、微波器件和传感元件等元器件用2 3 引用标准GB 4326 GB 8759 GB 8760 产品分类3. 1 导电类型非本征半导体单品霍尔迁移率和霍尔系数测量方法化合物半导体单晶晶向X射线衍射测量方法碑化像单品位错密度测量方法产品按导电类型分为N型和P型,按电阻率分为低阻导电型和高阻半绝缘型。以掺杂剂、载流子浓度和迁移率分类,按位错密度分级。3. 2牌号单品及切割片的牌号分别表示为2旦旦旦生o-o中国有色金属工业总
3、公司198!t02-23批准耐拉伯数字与罗马数字组合表示产品的等级与等次学元素符号表示掺杂剂有两种掺杂剂时,元素符号之间用“十”连接示液封直拉法碑化惊单晶1990-03-01实施1 . 11093-89 GB 阿拉伯数字与罗马数字组合表示产品的等级与等次口口切割片学元素符号表示掺杂剂有两种掺杂剂时,元素符号之间用“十”连接示液封直接法碑化综单晶若牌号表示不强调产品生产方法,产品不掺杂或不分级,则产品牌号的相应部分可省略。3. 3示例LECMGaAs Si-llll表示液封直拉法掺硅级三等碑化嫁单晶。LECMGaAs-Te-2!表示液封直拉法掺暗二级三等抑化嫁单晶。技术要求4 单晶单品生长方向为
4、(100)、(111)或(110)品向低阻N型单晶的规格尺寸、掺杂剂、裁流子浓度、迁移率和位错密度应符合表1的规定,表1载流子浓度迁移率位错密度直径长度牌号掺杂剂个cmm归、个cmcm/V s ”、自1不大于不小于LECMGaAs-Si !Ill 5XJO 1XI05X!OB1 300 2 400 LEO-在GaAs-Si-llVJXJO 20 40 LECMGaAs Si-2lll Si 5X101x10 2 400 3 000 5X 10 LECMGaAs-Si-31 1 JO 40 55 40 1 I 05 10 I 300 3 500 LECMGaAs-Si 、商定55 76 LECM
5、GaAs-Te-llV IX 105 XI 0 2 000 3 000 JX JO 20 40 LECMGaAo-Te-2III 5X JOlX 10串2 500 3 000 5X JO Te 寸1LECMGaAs-Te-31 1 X JO2 10 2 500 3 800 I XIO 40 55 LECMGaAo-Te 1x105X 10 2 000 3 800 商定55 76 4. 1 4- 1 4. 1. 2 高阻单晶的规格尺寸、掺杂剂、电阻率和位错密度应符合表2的规定。4. 1. 3 2 GB 11093- 8 9 表2位错密度电阻率直径牌号掺杂剂个cmQ cm mm 不大于LECMGa
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