GB T 2590.8-1981 氧化锆中氧化铪量的测定(发射光谱法).pdf

《GB T 2590.8-1981 氧化锆中氧化铪量的测定(发射光谱法).pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《GB T 2590.8-1981 氧化锆中氧化铪量的测定(发射光谱法).pdf（2页珍藏版）》请在麦多课文档分享上搜索。

中华人民共和国国家标；佳氧化错中氧化错量的测定（发射光谱法总则及一般规定按GB1467-78执行。I .方法提要6 以一定比例的氟化锁、碳粉混合物作缓冲剂，与试样混合后装入杯形电极直流电弧阳很激发，用光栅光谱仪摄谱，测量谱线的相对强度比，以logR一logC绘制工作曲线，求得氧化错中氧化馀含量。测定范围：0.0021%。2.仪器与设备摄谱仪光栅光谱仪，光栅刻线1300条毫米。色散率1.85埃毫米（级光谱二次投射）或3.7埃毫米一级光谱一次投射。光源s能产生20安培稳定直流电弧的设备。测微光度计。计算板。3.试剂与材料氧化错基体氧化倍含量小于0.005%）。氧化给（99%以上）。氟化领光谱纯）。碳粉（光谱纯。电极光谱纯石墨电极）：上电极为锥形，下电极为杯形，如下图。国.标准总局中华人民共和国冶金工业部发布提出 5 l咆悦0.008 I) 02 0 ;O 020 0. 050 . () oso (I. 100 :0.100 0 500 ;0.500 l 000 允许主（%0. 001 0. 002 0.010 0.020 o. 050 0.200 ii: 约IoI，已IC1.，；、准创磨4小时以t，际准孟，各点，取10克时，甫自f磨2小时以。分析出样研磨1015分钟。18 .