HB Z 5095.3-2004 氰化电镀黄铜溶液分析方法 第3部分 电位滴定法测定碳酸钠的含量.pdf
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1、FL 0140 3 部 H/Z 5095. 3 - 2004 主L测定Methods for analysis of cyaniding plating brass solutions part3: Detenllination of sodium carbonate content by potentiometric titrimetric method 2004-02-16发布2004一06-01实施防科学技术工业委员会发布HB/Z 5095.3-2004 10 前古目HB/Z 5095 氧化电镀黄铜溶液分析方法分为三个部分za) 第1部分:E町A容量法连续测定氟化亚钢和氧化镑的含盘;b)
2、 第2部分:电位滴定法测定氧化钩(游离)的含量;c) 第3部分:电位滴定法测定碳酸铀的含量。本部分为HB/z5095的第3部分。本部分是按工艺标准HB/z5069的要求新增加的分析方法。本部分由中国航空工业第二集团公司提出。本部分由中国航空综合技术研究所、北京航空材料研究院归口。本部分主要起卒单位:122厂。本部分主要起草人:张宪廷、张立民、王振林。阳却Z5095于1978年首次发布。范围氨化电镀第3部分:电位铜溶液分析方法定法测定碳酸铀的HBIZ 5095. 3 - 2004 本部分规定了采用电位滴定法测定钗化电镀黄铜溶液中碳酸纳含量的原理、试剂、仪器、分析步骤及分析结果的计算。2 本部分适
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