HB Z 5095.1-2004 氰化电镀黄铜溶液分析方法 第1部分 EDTA容量法连续测定氰化亚铜和氧化锌的含量.pdf
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1、E E HB/Z 5095. 1-2004 代替HBIZ5095一1978FL 0140 好部骨干同亚Methods for analysis of cyaniding plating brass solutions part 1: Continual detennination of copper( n lcyanate and zinc oxide content by EDTA volumetric method 2004-06-01实2004-02-16发布发布E! e、z;防科学技术工业HBIZ 5095.1一2004前H四Z5095 氧化电镀黄铜溶液分析方法分为三个部分:a) 第1
2、部分:E町A容量法连续测定氧化亚钢和氧化镑的含量;b) 第2部分:电位滴定法测定氟化纳(游离)的含量;c) 第3部分:电位滴定法测定碳酸铀的含量。本部分为HB/z5095的第1部分。本部分代替HB/Z5095 - 1978 氟化电镀黄铜溶液分析方法中氧化亚铜和氧化镑的连续测定。本部分与HB/Z5095一1978相比,主要变化是=所用术语、符号、代号及计量单位等按GB/T601、GB/T602、GB/T603、GI到T604等有关标准的要求进行了更改。2 本部分由中国航空工业第二集团公司提出。本部分由中国航空综合技术研究所、北京航空材料研究院归口。本部分主要起草单位:122厂。本部分主要起草人:
3、张宪廷、王振林、张立民。HB/z 5095于1978年首次发布。HBIZ 5095. 1-2004 范围化电镀黄铜溶在分析方法1部分:EDTA容量法连续测定氨化亚铜和氧化铸的含本部分规定了采用E町A容量法连续测定氧化电镀黄铜溶液中氧化亚铜、氧化钵含量的原理、试剂、分析步骤及分析结果的计算。2 本部分适用于氧化电镀黄铜溶液中氧化亚铜和氧化铸含量的连续测定。测量范围:CuCN35g/L-65g/L;ZnO 15g/L-35g/L。规范性引用文件下列文件中的条款通过本部分的引用而成为本部分的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包含勘误的内容)或修订版均不适用于本部分,然而,鼓励根据本部
4、分达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本部分。HB/Z 5083 - 2001 金属镀覆和化学覆盖溶液分析用试剂3 原理用过硫酸绞破坏铜氧、铐氨络离子,释放出铜离子、铸离子。在pH值约为10的氨性介质中,以PAll为指示剂,用EDTA标准滴定溶液滴定铜、镑总量。用甲M破坏铮氨络离子,钵离子定量释放出来,同时生成经基乙睛。在pH值约为10的氨性介质中,以铭黑T为指示剂,用E町A标准滴定溶液滴定镑,以减量法求得钢的含量。4 试J4. 1 过硫酸绞:团体。4.2 氨水:p约0.90g/mL。4.3抗坏血酸2团体。4.4 拧核酸钱溶液:1g/L。4.
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