HB Z 5089.2-2004 电镀黑镍溶液分析方法 第2部分 镁盐返滴定EDTA容量法 连续测定硫酸镍和硫酸锌的含量.pdf
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1、FL 0140 2 部 因里;美盐返HB/Z 5089.2 - 2004 代替HBIZ5089 - 1978 Methods for analysis of plating black nickel solntions-Part2 : Continnal determination of nickel snlfate and zinc snlfate content by magnesinm snlfate back titrimetric EDTA volnmetric method 2004-02-16发布2004-06-01实施国防科学技术工业委员会发布一一一一HBIZ 5089.2-2
2、004 言HB/Z 5089 电镀黑镇溶液分析方法分为六个部分:a) 第1部分:离子选择电极法测定硫酸镇钱的含量;b) 第2部分:钱盐返滴定EDTA容量法连续测定硫酸镣和硫酸铮的含量;c) 第3部分:EDTA络合滴定法连续测定硫酸辣和硫股镑的含量;d) 第4部分:沉淀滴定法测定硫股纳的含量;e) 第5部分:电位滴定法测定硫氨酸饺的含量;f) 第6部分:电位滴定法测定棚酸的含量。本部分为HB/Z5089的第2部分。本部分代替HB/Z5089一1978电镀黑镖溶液分析方法中硫酸镣及硫酸铸的连续测定。本部分与HB/Z5089 -1978相比,主要变化是:更换了Zn-EDTA解蔽剂,即用新试剂硫代乙院
3、酸代替有臭味的旧试剂二统基丙醇,不但消除了臭味,同时提高了解蔽镑的选择性。本部分由中国航空工业第二集团公司提出。本部分由中国航空综合技术研究所、北京航空材料研究院归口。本部分主要起草单位:122厂。本部分主要起草人:张立民、张宪廷、王振林。E也lz5089于1978年首次发布。目U6 HIZ 5089. 2 - 2004 范围电镀黑镇溶液分析方法2部分:摸盐返滴定EDTA窑连续测定硫酸镇和硅酸铸的含本部分规定了采用续盐返滴定EDTA容量法连续测定电镀黑镣溶液中硫酸镣(NiS,7H,O)和硫酸镑(ZnS47吼H乓m2O创)含量的原理、试f知剂F问l本吉部F分适用于电镀黑镣溶液中硫酸t镣束和硫酸铸
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