GB T 4937.4-2012 半导体器件.机械和气候试验方法.第4部分:强加速稳态湿热试验(HAST).pdf
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1、ICS 31. 080. 01 L 40 GB 中华人民主t/、和国国家标准GB/T 4937.4-20 12/IEC 60749-4: 2002 半导体器件机械和气候试验方法第4部分:强加速稳态湿热试验(HAST)Semiconductor devices 一Mechanical and climatic test methods 一-Part 4: Damp heat, steady state, highly accelerated stress test(HAST) (IEC 60749-4: 2002 , IDT) 2012-11-05发布3挚叫协主¥ 黯)9 Jj/ 中华人民共和国
2、国家质量监督检验检夜总局中国国家标准化管理委员会2013-02-15实施发布中华人民共和国国家标准半导体器件机械和气候试验方法第4部分z强加速稳态湿热试验(HAST)GB/T 4937. 4-2012/IEC 60749-4:2002 祷中国标准出版社出版发行北京市朝阳区和平里西街甲2号(100013)北京市西城区三里河北街16号(100045)网址总编室:(010)64275323发行中心:(010)51780235读者服务部:(010)68523946中国标准出版社秦皇岛印刷厂印刷各地新华书店经销* 开本880X12301/16 印张0.5字数11千字2013年2月第一版2013年2月第一
3、次印刷* 书号:155066. 1-46248定价14.00元如有印装差错由本社发行中心调换版权专有侵权必究举报电话:(010)68510107GB/T 4937.4-20 12/IEC 60749-4: 2002 目。吕GB/T 4937(半导体器件机械和气候试验方法由以下部分组成:一一第1部分:总则;第2部分=低气压;第3部分:外部目检;一一第4部分:强加速稳态湿热试验(HAST); 一一第5部分:稳态温湿度偏置寿命试验;一一第6部分:高温贮存;一一第7部分:内部水汽含量测试和其他残余气体分析;一一第8部分:密封;一一第9部分:标志耐久性z一一第10部分:机械冲击;一一第11部分:快速温度
4、变化双液槽法;一一第12部分:变频振动;一一第13部分:盐气;一一第14部分:引线牢固性(引线强度); 一一一第15部分:通孔安装器件的耐焊接热;一一第16部分:粒子碰撞噪声检测(PIND); 一一第17部分:中子辐射;一一一第18部分:电离辐射(总剂量); 一一第19部分:芯片剪切强度;第20部分:塑封表面安装器件的耐湿和耐焊接热;第21部分:可焊性;一一第22部分:键合强度;一一第23部分z高温工作寿命;一一第24部分:加速耐湿无偏置强加速应力试验;一一第25部分:温度循环;一一第26部分:静电放电(ESD)敏感度试验人体模式(HBM); 一一第27部分:静电放电(ESD)敏感度试验机械模
5、式(MM);一一-第28部分:静电放电(ESD)敏感度试验器件带电模式(CDM)(考虑中); 第29部分:门锁试验;第30部分:非密封表面安装器件在可靠性试验前的预处理;一一第31部分:塑封器件的易燃性(内部引起的); 一一第32部分:塑封器件的易燃性(外部引起的); 一一第33部分:加速耐湿无偏置高压蒸煮;一一第34部分:功率循环;第35部分:塑封电子元器件的声学扫描;第36部分:恒定加速度;一一第37部分:手持电子产品用元器件桌面跌落试验方法;I GB/T 4937.4-20 12/IEC 60749-4: 2002 一一第38部分:半导体器件的软错模试验方法;第39部分:半导体元器件原材
6、料的潮气扩散率和水溶解率测量。本部分是GB/T4937的第4部分。本部分按照GB/T1. 1-2009给出的规则起草。本部分使用翻译法等同采用IEC60749-4: 2002(半导体器件机械和气候试验方法第4部分:强加速稳态湿热试验(HAST)。为便于使用,本部分做了下列编辑性修改和勘误:a) 用小数点代替作为小数点的逗号,;b) 删除国际标准的前言; 、/ / / / / 主三 E GB/T 4937.4-2012月EC60749-4; 2002 半导体器件机械和气候试验方法第4部分:强加速稳态湿热试验(HAST)3.2 温度分布推荐记录每一次试验循环的温度分布,以便验证应力的有效性。3.3
7、 受试器件受试器件应以最小化温度梯度的方式安装。受试器件应放置在箱体内距箱体内表面至少3cm,且不应受到发热体的直接辐射。安装器件的安装板应对蒸汽循环的干扰最小。3.4 最小化污染物释放应认真选择安装板和插座的材料,将污染物的释放减到最少,将由于侵蚀和其他机理造成的退化减到最少。1 GB/T 4937.4-20 12/IEC 60749-4: 2002 3.5 离子污染应对试验设备(插件柜、试验板、插座、配线储存容器等)的离子污染进行控制,以避免试验样品受到污染。3.6 去离子水应使用室温下电阻率最小为lX104nm的去离子水。4 试验条件试验条件由温度、相对湿度和器件上施加规定偏置的持续时间
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