KS C 6520-2008 Components and materials of semiconductor process－Measurement of wear characteristics by plasma《半导体工艺零件的等离子耐磨性测试》.pdf

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KS C 6520-2008 Components and materials of semiconductor process－Measurement of wear characteristics by plasma《半导体工艺零件的等离子耐磨性测试》.pdf

1、 KSKSKSKSKSKSKSK KSKSKS KSKSK KSKS KSK KS KS C 6520 KS C 6520:2008 2008 11 28 http:/www.kats.go.krKS C 6520:2008 : ( ) ( ) FITI ( ) : (http:/www.standard.go.kr) ：： 2008 11 28 2008-0839 ：： ( 02-509-7294) (http:/www.kats.go.kr). 10 5 , . KS C 6520:2008 i ii 1 1 2 .1 3 2 3.1 .2 3.2 .2 3.3 2 4 2 5 3 6

2、 .4 6.1 .4 6.2 4 6.3 4 6.4 4 6.5 .4 6.6 .4 7 4 7.1 .4 7.2 6 7.3 6 8 8 8.1 8 8.2 .8 8.3 .8 8.4 8 KS C 6520:2008 .9 KS C 6520:2008 ii (ISO) , (KS) . . , , . , , . KS C 6520:2008 Components and materials of semiconductor processMeasurement of wear characteristics by plasma 1 , , , . 2 . 2.1 (plasma den

3、sity) 2.2 . eV . 2.3 2.4 ( ) , , 2.5 . 2.6 . KS C 6520:2008 2 2.7 2.8 , . 3 3.1 , . . a) . b) ( ) . c) . d) . . eV . . . 3.2 . a) (mass spectrometer) . b) (optical emission spectrometer) . . 3.3 3 . 10 . 4 4.1 150 mm150 mm . KS C 6520:2008 3 4.2 . . . 10 3 Torr 10 2 Torr 10 3 Torr (capillary tube) (

4、orifice) . 4.3 10 3 Torr 5 %, 10 % . . 4.4 15 25 1 . 4.5 99.999 9 % CF4 Ar . 4.6 . . 5 1 . a) 400 mm, 500 mm 10 6Torr (TMP) . b) 20 cm . RF . RF 300 W . c) . 10 4Torr 1.5 mm, 300 mm . 2 . 1 RF QMS RF gate valveloas lockAr SF6CF4O2N2KS C 6520:2008 4 6 6.1 , , RF . 6.2 510 6 Torr , (leak) . 6.3 510 4T

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6、muir) . a) . b) . 7.2.3 a) 7.1.3.2 . b) . c) 3 . 7.3 7.3.1 . , . . . 7.3.2 . KS C 6520:2008 7 a) . b) . 7.3.3 ( ) . 7.3.3.1 . 7.3.3.2 a) (background level) . b) . RF . c) . d) . 3 . 7.3.4 . 7.3.4.1 . 7.3.4.2 a) (510 6Torr ) . b) . c) RF . d) . e) . 3 . KS C 6520:2008 8 8 8.1 . a) , , , b) 8.2 . a) b

7、) , , c) d) 8.3 . a) , , . (amu) . (logarithmic) . b) . . , , , , . c) . d) . . , , , , . e) 10 % . . f) . , , , , g) . 8.4 , . KS C 6520:2008 9 KS C 6520:2008 . 1 1.1 , , . , . . 1.2 “ ” . 1.3 a) KS . b) . 2 KS ( ) a) . 3 . 4 ( 1.) , , . KS C 6520:2008 10 5 5.1 ( 3.) , , , . . 5.2 ( 4.) . 5.3 ( 5.)

8、 , , . 5.4 ( 7.) . . 5.5 ( 8.) , . 6 135513 7017 (02)60094114 (02)600948878 http:/ KS C 6520:2008 KSKSKS SKSKS KSKS SKS KS SKS KSKS SKSKS KSKSKS Components and materials of semiconductor processMeasurement of wear characteristics by plasma ICS 31.080.00 Korean Agency for Technology and Standards http:/www.kats.go.kr

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