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    JB T 7484-1994 铝(Al)反射镜镀制工艺.pdf

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    JB T 7484-1994 铝(Al)反射镜镀制工艺.pdf

    1、中华人民共和国机械行业标准JB / T 7484-94 铝(Al)反射镜镀制工艺1994-09-08发布1995-05-01实施中华人民共和国机械工业部发布2 引用标准3 术语3. 1 真空镀膜真空中被加热撞击、凝聚在特定位3.3 膜料获得薄膜的初始情料。3. 5 辅料中华人民共和国机械行业标准铝(Al)反射镜镀制工艺源。膜料以外的与做工艺过程相关的辅料,清4 反射镜分类依据反射镜的4. 1 外反射镜基片的前表面4. 2 内反射镜基片的后表面4. 3 金属一介质高表面镀铝r.姻介.保,蝠睡构成反纯靠面。表面镀JB / T 7484-94 旦回可剂等。通过零件进行反射。基面的前表面是镜面.待镀膜

    2、表面镀铝膜加多层介质膜构成金属一介质高反射镜面。其结构表示为:1页再三-09-08批准1995-05-01实施其中:G一一基片;L、H一一低折p一一L、H的周期吨主变窄;A一一空气。5 主要设备6 工艺流程前期准备*10Pa)离子轰击快*含基片清洗、7 镀腹前准备7.1 对辅料的要求擦拭用的棉花、7.4.1 脱脂净化质量处理过的净化表面哈苟E7.4.2 离子轰击的选择7. 4.2. 1 轰击参数2 JB / T 7484-94 G / AI+(LH)P J / A 谱区的中心波长;射.但同时使反射带r 液、洗撮剂、有机禧剂)和l _.J r ., 吸附的干燥规范。KJ 圃r ., 以获得活化表

    3、面。JB / T 7484-94 离子轰击参数选择的原则是高电压、大电流和短时间。450rnrn真空室的推荐参数为:轰击电压:3-5 kV; 轰击电流:50 轰击时间:5-7. 4.2. 2 轰击的安为减少活化表8 镀膜8. 2. 2.1 外反射镜保护膜的光学电射带变窄。b:? 2哩静喔棚T哺可见区使用的反射镜,推荐膜料为一氧化撞li岛战外区使用18.2.2. 2 内反射镜的保阶层通常是涂攘,注真空室外进行。攘的选择除要能嗦渺外,而且不应与铝膜反应而降低铝酶的8.3 金属一介质高fj(i蜿蟹的镀膜8.3. 1 铝膜最佳制每条件同8.2.1条。8.3.2 铝膜上加镀的知篝膜调整膜厚监控仪,严格、

    4、按照膜系要求,控制愚厚度.8.3.2.1铝膜镀完嗨梢低折射率L属;78.3.2. 2 如需加温i在镀完L层后进行烘姆捆温.9 踵量检验9 . 1 9. 2 9.3 附加说明:本标准由沈阳仪器仪表工艺研究所提出并归口。本标准由沈阳仪器仪表工艺研究所负责起草。本标准主要起草人:顾金锐。3 rv h田dl .A.J KJ E国圄r 1 田UKSA-品国和共民人华中准标业行械机铝(Al)反射罐罐制工艺JB / T7484-94 * 机械工业部位a.仪表综合技术经济研究所出lC.i.北京机被企协印刷服务部印刷机械工业部仪器仅.综合技术经济研究所出民* 1996年3月第-;_大印刷工本:5.00元由1996年3月第一版印数:120册


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